[發(fā)明專利]一種扇形段基礎(chǔ)框架的測量方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210106950.7 | 申請日： | 2022-01-28 |
| 公開（公告）號： | CN114413733A | 公開（公告）日： | 2022-04-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 孟網(wǎng)網(wǎng);田剛;傅昊;王彬生;馮清;王鑫;毛皓若 | 申請（專利權(quán)）人： | 中鋼集團西安重機有限公司 |
| 主分類號： | G01B5/25 | 分類號： | G01B5/25;G01B5/00;G01B5/14;G01B5/004;G01B5/02 |
| 代理公司： | 西安毅聯(lián)專利代理有限公司 61225 | 代理人： | 韓金明 |
| 地址： | 710000 陜西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 扇形 基礎(chǔ) 框架 測量方法 | ||
1.一種扇形段基礎(chǔ)框架的測量方法，其特征在于，包括：
在基礎(chǔ)框架(1)上的平面座(2)和U型座(3)上分別開設(shè)第一銷孔(21)和第二銷孔(31)，所述第一銷孔(21)和所述第二銷孔(31)分別處于所述平面座(2)和所述U型座(3)的豎直中心線上，且所述第一銷孔(21)和所述第二銷孔(31)處于同一水平面；
在所述平面座(2)和所述U型座(3)的底面分別設(shè)置墊片組(4)；
在所述第一銷孔(21)的下方的所述基礎(chǔ)框架(1)上開設(shè)第一基準孔(11)，在所述第二銷孔(31)的下方的所述基礎(chǔ)框架(1)上依次開設(shè)第二基準孔(12)和第三基準孔(13)；
在所述第一銷孔(21)、所述第二銷孔(31)、所述第一基準孔(11)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)中依次插接銷柱(5)；
用平尺(7)檢驗所述第二銷孔(31)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)是否處于同一豎直線，若不處于同一豎直線，則調(diào)整所述U型座(3)下方的所述墊片組(4)使得所述第二銷孔(31)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)最終處于同一豎直線；
用卡尺測量所述第二銷孔(31)與所述第二基準孔(12)之間的距離H1,通過所述距離H1來調(diào)整處于所述U型座(3)下方的所述墊片組(4)的厚度，最終確定好所述U型座(3)的位置；
用所述卡尺測量所述第一銷孔(21)與所述第一基準孔(11)之間的距離H2，通過所述距離H2來調(diào)整處于所述平面座(2)下方的所述墊片組(4)的厚度，最終確定好所述平面座(2)的位置；
用千分尺測量兩個所述第三基準孔(13)處的銷柱(5)分別到兩個所述U型座(3)之間的垂直距離，進而判斷同軸度是否符合要求，如果所述同軸度不符合要求，通過調(diào)整所述U型座(3)下方的所述墊片組(4)，使得所述同軸度符合要求。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇形段基礎(chǔ)框架的測量方法，其特征在于，所述第一基準孔(11)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)的開設(shè)方法包括：
設(shè)置加工原點J(X＝0,Y＝0)；
在所述基礎(chǔ)框架(1)上相對于所述加工原點J的縱坐標偏移量Y1、Y2的位置加工出J2平面和J1平面；
所述第一基準孔(11)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)的中心點相對于所述加工原點J分別按坐標(X2,Y3)、(X1,Y4)和(X1,Y5)加工，坐標尺寸精度為±0.05mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇形段基礎(chǔ)框架的測量方法，其特征在于，用所述平尺(7)檢驗所述第二銷孔(31)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)是否處于同一豎直線，并使得所述第二銷孔(31)、所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)最終處于同一豎直線的具體方法包括：
將所述平尺(7)緊靠在所述第二基準孔(12)和所述第三基準孔(13)對應(yīng)的銷柱(5)的外側(cè)，并使得平尺(7)的頂端緩慢靠近所述第二銷孔(31)對應(yīng)的銷柱(5)，若第二銷孔(31)處的銷柱(5)外側(cè)超過平尺(7)，用卡尺測量超出尺寸，并按所述超出尺寸減薄所述第二銷孔(31)背離所述平尺(7)的一側(cè)的所述墊片組(4)，同樣在所述第二銷孔(31)靠近所述平尺(7)的另一側(cè)增加相同厚度的所述墊片組(4)；若所述第二銷孔(31)處的柱銷外側(cè)與所述平尺(7)之間存在間距，則用塞尺測量所述間距，按所述間距增加所述第二銷孔(31)背離所述平尺(7)的一側(cè)的所述墊片組(4)，同樣在所述第二銷孔(31)靠近所述平尺(7)的另一側(cè)減薄相同厚度的所述墊片組(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇形段基礎(chǔ)框架的測量方法，其特征在于，所述基礎(chǔ)框架(1)上的兩個所述U型座(3)上分別設(shè)置有扇形段位置C、D；
以所述距離H1為標準距離，然后垂直向上測量所述第二銷孔(31)到所述扇形段位置C和/或D的中心點的距離h2，將所述距離H1和所述距離h2進行結(jié)合，同時調(diào)整所述U型座(3)下方的所述墊片組(4)的厚度，最終確定好所述U型座(3)的位置。
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