[發明專利]保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法

有效

• 申請號: 202210088536.8
• 申請日: 2022-01-26
• 公開（公告）號: CN114107916B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: 郭洪波;魏亮亮;梁彩云;師俊東;宋偉
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學;中國航發沈陽發動機研究所
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/04
• 代理公司: 北京天匯航智知識產權代理事務所(普通合伙) 11987
• 代理人: 黃川

1.一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，包括：

根據葉片形狀以及與等離子射流的相對位置關系對氣膜冷卻孔進行分類，包括位于葉片片身位置的第一氣膜冷卻孔（1）、位于葉片進氣邊的第二氣膜冷卻孔（2）、位于葉片排氣邊的第三氣膜冷卻孔（3）；

采用等離子物理氣相沉積方法對葉片進行熱障涂層鍍覆，鍍覆時采用第一耐高溫材料對氣膜冷卻孔通氣的冷氣通道（4）進行堵塞，使氣膜冷卻孔成為盲孔，降低等離子射流在葉片氣膜冷卻孔和冷氣通道4內的流動性；所述第一耐高溫材料為石墨或氧化鋁；

所述葉片的進氣邊一側和排氣邊一側分別設有物理遮擋裝置以減慢等離子射流對第二氣膜冷卻孔（2）和第三氣膜冷卻孔（3）內部的沖擊，從而減少涂層在孔內的沉積；所述物理遮擋裝置為平板狀的進氣邊減速擋板（5）和排氣邊減速擋板（6）且至少使葉片上曲率半徑小于0.012R1的部位受到遮擋，R1為葉身處的最大曲率半徑。

2.根據權利要求1所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述進氣邊減速擋板（5）和排氣邊減速擋板（6）寬度為5cm，距離進氣邊和排氣邊的距離為1-10cm。

3.根據權利要求2所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述進氣邊減速擋板（5）和排氣邊減速擋板（6）距離進氣邊和排氣邊的距離為2cm。

4.一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，包括：

根據葉片形狀以及與等離子射流的相對位置關系對氣膜冷卻孔進行分類，包括位于葉片片身位置的第一氣膜冷卻孔（1）、位于葉片進氣邊的第二氣膜冷卻孔（2）、位于葉片排氣邊的第三氣膜冷卻孔（3）；

采用等離子物理氣相沉積方法對葉片進行熱障涂層鍍覆，鍍覆時葉片連通輸送惰性氣體的工裝，所述工裝連接葉片的冷氣通道，并向葉片氣膜冷卻孔輸送惰性氣體，使氣膜冷卻孔具有一定的壓力；

所述惰性氣體的溫度高于500℃；

所述葉片的進氣邊一側和排氣邊一側分別設有物理遮擋裝置以減慢等離子射流對第二氣膜冷卻孔（2）和第三氣膜冷卻孔（3）內部的沖擊，從而減少涂層在孔內的沉積；所述物理遮擋裝置為平板狀的進氣邊減速擋板（5）和排氣邊減速擋板（6）且至少使葉片上曲率半徑小于0.012R1的部位受到遮擋，R1為葉身處的最大曲率半徑。

5.根據權利要求1或4所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述物理遮擋裝置材質為第二耐高溫材料。

6.根據權利要求5所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述第二耐高溫材料為石墨或高溫合金。

7.根據權利要求4所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述氣膜冷卻孔內的惰性氣體壓力為0.01-1MPa。

8.根據權利要求7所述的一種保持葉片氣膜冷卻孔通暢的鍍覆方法，其特征在于，所述氣膜冷卻孔內的惰性氣體壓力為0.1MPa。