[發(fā)明專利]一種納米二硼化鈦片層粉體的高壓熔鹽可控制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210086646.0 | 申請日： | 2022-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN114349014A | 公開（公告）日： | 2022-04-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱品文;張金猛;陶強;左瑩;由存;董書山;王欣 | 申請（專利權(quán)）人： | 吉林大學(xué) |
| 主分類號： | C01B35/04 | 分類號： | C01B35/04 |
| 代理公司： | 長春吉大專利代理有限責(zé)任公司 22201 | 代理人： | 王恩遠(yuǎn) |
| 地址： | 130012 吉林省長春市*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 納米 二硼化鈦片層粉體 高壓 可控 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種納米二硼化鈦片層粉體的高壓熔鹽可控制備方法，其步驟為：以粒徑尺寸為微米級別的鈦粉和硼粉作為原料，在原料中加入助溶劑氯化鈉，對混合好的原料在兆帕級別的壓力下粉壓成型，然后在5GPa，1600℃范圍內(nèi)進(jìn)行高溫高壓合成，保溫保壓45min-1h，之后冷卻卸壓，得到納米粒徑的二硼化鈦。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米二硼化鈦片層粉體的高壓熔鹽可控制備方法，其特征在于，所述的在兆帕級別的壓力下粉壓成型，是將粉末樣品置于內(nèi)徑為4mm的磨具中，利用壓片機(jī)在1MPa的壓力下，常溫壓制成高度為2mm，直徑為4mm的圓柱。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米二硼化鈦片層粉體的高壓熔鹽可控制備方法，其特征在于，所述的冷卻卸壓，是停止通電加熱后，組裝塊自然冷卻至常溫，然后卸壓。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米二硼化鈦片層粉體的高壓熔鹽可控制備方法，其特征在于，燒結(jié)時氯化鈉和鈦硼之間的質(zhì)量比為3:1。
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