[發明專利]一種低光澤細膩磨砂效果面的陶瓷巖板及其制備方法

在審

• 申請號: 202210081129.4
• 申請日: 2022-01-24
• 公開（公告）號: CN114454303A
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發明（設計）人: 謝志軍;董軍樂;徐維鵬;李惠文;程海龍
• 申請（專利權）人: 蒙娜麗莎集團股份有限公司
• 主分類號: B28B3/00
• 分類號: B28B3/00;B28B11/04;B28B11/08;B28B11/24;C03C8/00;E04F13/075
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

1.一種低光澤細膩磨砂效果面的陶瓷巖板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

將巖板基料壓制成磚坯；

在磚坯表面施面釉；

在施面釉后的磚坯表面噴墨打印設計圖案；

在噴墨打印設計圖案后的磚坯表面施包含高溫透明干粒的啞光透明干粒釉；

在施啞光透明干粒釉后的磚坯表面施啞光保護釉；

將施啞光保護釉后的磚坯燒成并拋刷磚面，得到所述低光澤細膩磨砂效果面的陶瓷巖板。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述高溫透明干粒的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：56～59%、Al₂O₃：20～22%、堿土金屬氧化物：12.0～17.0%、堿金屬氧化物：4.0～8.0%、ZnO：2.0～4.0%。

3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述啞光透明干粒釉的高溫透明干粒的顆粒級配包括：以質量百分比計，200目以下：3～5%、200-250目：15～20%、250-325目：40～60%、325目以上：20～40%。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述啞光透明干粒釉的施加方式為淋釉，比重為1.10～1.13g/cm³，施釉量為375～420 g/m²。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述啞光保護釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：49～52%、Al₂O₃：19～21%、堿土金屬氧化物：14.5～19.5%、堿金屬氧化物：5.0～9.0%、ZnO：5～7%。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述啞光保護釉的施加方式為噴釉，比重為1.25～1.30 g/cm³，施釉量為125～170 g/m²。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述高溫透明干粒的始融溫度為900～950℃，所述啞光保護釉的始融溫度為850～900℃；優選地，所述高溫透明干粒的始融溫度高于啞光保護釉。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的制備方法，其特征在于，采用研磨刷拋刷磚面；所述研磨刷的主要材料為樹脂和碳化硅組成的有機無機復合材料。

9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，采用研磨刷拋刷磚面的壓力≤0.2MPa。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的制備方法獲得的低光澤細膩磨砂效果面的陶瓷巖板，其特征在于，所述陶瓷巖板的表面光澤度為3-5度。