[發明專利]使用時序控制啟閉之真空閥門在審
| 申請號: | 202210078124.6 | 申請日: | 2022-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN116045016A | 公開(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發明(設計)人: | 林賜民;許俊樹;蔡智仁 | 申請(專利權)人: | 日揚科技股份有限公司 |
| 主分類號: | F16K3/02 | 分類號: | F16K3/02;F16K31/122 |
| 代理公司: | 北京思格頌知識產權代理有限公司 11635 | 代理人: | 潘珺 |
| 地址: | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 時序 控制 啟閉 真空 閥門 | ||
本發明涉及一種使用時序控制啟閉之真空閥門,包含密封板、縱向驅動缸以及橫向驅動缸。在閉合操作時,第一流體系先推動縱向驅動缸之第一活塞桿由第二位置上升至第一位置,藉以允許第一流體推動橫向驅動缸之第二活塞桿移向閥口,并使得密封板閉合閥口。在開啟操作時,第二流體系先推動橫向驅動缸之第二活塞桿朝著遠離閥口之方向移動,再使得縱向驅動缸之第一活塞桿由第一位置下降至第二位置。藉此,本發明不需使用止逆閥,且不須采用面積壓力比之控制方式,且縱向驅動缸之剛性強度不受第一活塞桿之升降而影響,故運作較穩定。
技術領域
本發明是有關于一種真空閥門,特別是有關于一種使用時序控制啟閉之真空閥門。
背景技術
真空閥門通常應用于真空制程室中,用以選擇性閉合或開啟真空制程室之閥口,以便進行抽真空制程。然而,傳統真空閥門須增設止逆閥做氣源分配,才能控制縱向及橫向的作動,且其系采用面積壓力比之控制方式,因此,傳統真空閥門不僅結構設計較復雜、零件較多及成本較高,而且其作動較為復雜且相對較不穩定。此外,傳統的真空閥門系向外伸展驅動缸之活塞桿并使密封板貼住閥口,藉以獲得所需之閉合效果,然而傳統真空閥門之整體剛性強度會隨著驅動缸之活塞桿向外伸展而逐漸降至最低值。由此可見,傳統技術仍有待改善。
發明內容
有鑒于此,本發明之一目的就是在提供一種使用時序控制啟閉之真空閥門,以解決傳統技術之問題。
為達前述目的,本發明提出一種使用時序控制啟閉之真空閥門包含一密封板、至少一縱向驅動缸及至少一橫向驅動缸。密封板系用以往復地移動至一閉合位置或一開啟位置,以閉合或開啟一閥口。該縱向驅動缸系包含一第一缸體、一第一活塞板及一第一活塞桿,該第一活塞板系固接于該第一活塞桿之一中央段上,且該第一活塞板系可移動式設于該第一缸體中,藉以在該第一缸體中分別形成一第一閉合用進氣室及一第一開啟用進氣室位于該第一活塞板之兩側。該橫向驅動缸系設于該縱向驅動缸之該第一活塞桿上,該橫向驅動缸包含一第二缸體、一第二活塞板及一第二活塞桿,該第二活塞板系連接于該第二活塞桿之一中央段上,該第二活塞桿之頂端系連接于該密封板之內側,且該第二活塞板系可移動式設于該第二缸體中,藉以在該第二缸體中分別形成一第二閉合用進氣室及一第二開啟用進氣室位于該第二活塞板之兩側,其中當一第一流體被供應至該縱向驅動缸之該第一閉合用進氣室時,該第一流體系推動該第一活塞板上升直至該第一活塞桿之底端上升至一第一位置,使得該第一閉合用進氣室經由一閉合用進氣管件連通該第二閉合用進氣室以及該第一開啟用進氣室經由一開啟用進氣管件連通該第二開啟用進氣室,藉以令該第一流體經由該第一閉合用進氣室進入該第二閉合用進氣室中并經由推動該第二活塞板使得該密封板移動至該閉合位置,其中當一第二流體被供應至該縱向驅動缸之該第一開啟用進氣室時,該第二流體系先經由該第一開啟用進氣室供應至該第二開啟用進氣室中并推動該第二活塞板使得該密封板朝著遠離該閉合位置之方向移動,再推動該第一活塞板下降直至該第一活塞桿之該底端下降至一第二位置,以便使得該密封板移動至該開啟位置。
其中,在該第一活塞桿上升及下降的過程中,該縱向驅動缸之第一缸體之頂端及底端系同時恒保持密合式套接該第一活塞桿。
其中,該第一流體及該第二流體系對應地循序供應至該第一閉合用進氣室及該第一開啟用進氣室,藉以使得該密封板對應地閉合及開啟該閥口。
其中,當該第一流體被供應至該第一閉合用進氣室中時,該第二流體系停止被供應至該第一開啟用進氣室中,且當該第二流體被供應至該第一開啟用進氣室中時,該第一流體系停止被供應至該第一閉合用進氣室中。
其中,該閉合用進氣管件之一進氣口系設于該縱向驅動缸之該第一活塞桿之該底端上之一第三位置,該開啟用進氣管件之一進氣口系設于該縱向驅動缸之該第一活塞桿之該中央段上之一第四位置。
其中當該第一活塞桿之該底端上升至該第一位置時,該閉合用進氣管件之該進氣口系位于該第一閉合用進氣室中,該開啟用進氣管件之該進氣口系位于該第一開啟用進氣室中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日揚科技股份有限公司,未經日揚科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202210078124.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





