[發(fā)明專利]透明自清潔PMMA板材的制造方法及透明自清潔PMMA板材在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210076434.4 | 申請日: | 2022-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN114369205A | 公開(公告)日: | 2022-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 屈潔昊;劉向東;殷勝炯;何淑婷;范琴琴;朱紅琴;許王杰 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江華帥特新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C08F265/04 | 分類號: | C08F265/04;C08F283/12;C08F299/08;C08F220/14;C08F220/18;C08F220/24;C08F220/20;C08F230/02;C08F220/58;B32B27/06;B32B27/30 |
| 代理公司: | 上海波拓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264 | 代理人: | 謝素 |
| 地址: | 314311 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明 清潔 pmma 板材 制造 方法 | ||
1.一種透明自清潔PMMA板材的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:
提供模具,所述模具具有一型腔;
使用功能溶液于所述型腔的至少一側(cè)壁形成薄層鋪展液膜,所述功能溶液包括功能單體和溶劑MMA,所述功能單體具有自清潔功能;
于所述型腔內(nèi)澆注高分子溶液,所述高分子溶液包括溶劑MMA;
藉由所述MMA,部分所述功能單體自所述薄層鋪展液膜擴(kuò)散至所述高分子溶液中,且其濃度自所述薄層鋪展液膜向所述高分子溶液呈梯度遞減;
固化所述功能溶液和所述高分子溶液,固化過程中所述功能單體之間、所述功能單體與所述MMA之間,及所述MMA之間發(fā)生共聚反應(yīng),形成透明自清潔PMMA板材。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述功能單體為具有疏水自清潔功能的功能單體,包括分子結(jié)構(gòu)如i、ii和iii所示的功能單體中的一種或幾種:
i)ii)iii)
其中,CnH2n+1與CnHαFβ基團(tuán)均為飽和直鏈型結(jié)構(gòu),n∈[6,18]的正整數(shù),n1∈[3,2000]的正整數(shù),α、β為正整數(shù),α+β=2n+1,R1為氫原子或甲基,R2、R3為碳原子數(shù)1-3的烷烴基中的一種,R4、R5、R6為烯烴基、芳烴基或碳原子數(shù)1-6的烷烴基、烴氧羰基、烴氧基中的一種,iii)中0-1的含義是此處取值僅可為0或者1,分別表示酯基不存在與存在兩種情況。
3.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述功能單體為具有親水自清潔功能的功能單體,包括分子結(jié)構(gòu)如iv、v和vi所示的功能單體中的一種或幾種:
iv)v)vi)
其中,R1為氫原子或甲基,R7為氫原子、三(羥甲基)甲基、羧基、磺酸基、氨基甲酰基、羥基、氨基、季銨鹽基團(tuán)中的一種,iv)中X為氧原子或NH,0-1的含義是此處取值僅可為0或者1,分別表示X不存在與存在兩種情況,v)中0-1的含義是此處取值僅可為0或者1,分別表示酯基不存在與存在兩種情況,R8為碳原子數(shù)在1-10的烷烴基中的一種,R9為四氟化硼離子或六氟化磷離子,R10、R11、R12為甲基或乙基,n2、n3∈[0,8]的正整數(shù),n4、n5∈[1,8]的正整數(shù)。
4.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述功能溶液還包括增稠劑和基材潤濕劑,所述功能溶液的黏度為10-600mpa·s,所述功能溶液的表面張力≤45mN/m。
5.如權(quán)利要求4所述的制造方法,其特征在于,所述功能溶液中所述增稠劑和所述基材潤濕劑的質(zhì)量占比總和≤5%,所述功能單體的質(zhì)量占比≥30%。
6.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述模具的型腔內(nèi)用于形成所述薄層鋪展液膜的表面的平均粗糙度為10nm-400nm。
7.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,形成所述薄層鋪展液膜的方法包括氣相沉積、旋涂、浸涂、噴涂及淋涂中的一種。
8.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述高分子溶液還包括聚甲基丙烯酸酯高分子鏈及引發(fā)劑,聚甲基丙烯酸酯包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丙酯及聚甲基丙烯酸丁酯中的一種或幾種,所述高分子溶液中所述聚甲基丙烯酸酯高分子鏈的質(zhì)量占比為5-20%,所述引發(fā)劑的質(zhì)量占比≤1%,所述引發(fā)劑為可分解成自由基的化合物,其分解產(chǎn)生自由基時的最低溫度在45℃-100℃且半衰期在100-101h之間。
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