[發(fā)明專利]一種S形MoS2 有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210074356.4 | 申請(qǐng)日: | 2022-01-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114380349B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-03-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃瑋;劉鐘馨;王潔瓊;王敦 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 海南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C02F1/14 | 分類號(hào): | C02F1/14;C02F103/08 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 文小花 |
| 地址: | 570228 海*** | 國(guó)省代碼: | 海南;46 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 mos base sub | ||
1.一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:具體包括以下步驟:
(1)基底預(yù)處理:將基底進(jìn)行清洗,然后進(jìn)行刻蝕處理;所述基底為鈦網(wǎng)、鈦合金網(wǎng)或不銹鋼網(wǎng)中的一種;所述基底目數(shù)為250-350目,厚度為0.2-0.8mm;
(2)將硫脲和四水合鉬酸銨混合制成光吸收材料;
(3)將預(yù)處理后的基底與光吸收材料在180-230℃下反應(yīng)18-25h,然后用去離子水清洗烘干,得到光熱膜;
(4)再將所述光熱膜進(jìn)行結(jié)構(gòu)裁切,制成海水淡化膜;所述結(jié)構(gòu)裁切的形狀包括S形,裁切尺寸為長(zhǎng)10.5-13.5cm,寬為2.5-3.5cm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述鈦合金為鈦和過(guò)渡金屬、非金屬中的一種或多種元素組成的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述過(guò)渡金屬包括釩、鉬、鈮、鉻、鐵、銅、鈷、鎳、鋯、鋅、鎘、錳、鈀、銠中的一種或多種元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述非金屬包括碳、氮、氧中的一種或多種元素。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述鈦合金中鈦的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為2%-99%。
6.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述刻蝕處理具體為:將清洗后的基底放入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%-15%的草酸溶液中,并在沸騰的狀態(tài)下刻蝕35-45min,刻蝕過(guò)后的基底用去離子水沖洗過(guò)后烘干。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種S形MoS2-Ti網(wǎng)光-電-熱海水淡化膜的制備方法,其特征在于:所述步驟(2)中將硫脲、四水合鉬酸銨與去離子水以重量比1.3-1.8:1:50-60混合5-15min制成光吸收材料。
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