[發明專利]一類萘酰亞胺光引發劑、其合成方法及應用

有效

• 申請號: 202210072104.8
• 申請日: 2022-01-21
• 公開（公告）號: CN114409830B
• 公開（公告）日: 2023-07-28
• 發明（設計）人: 任曉楨;吳小強
• 申請（專利權）人: 深圳市普利凱新材料股份有限公司
• 主分類號: C08F2/48
• 分類號: C08F2/48;C07D405/06;C07D221/14;C09D11/101
• 代理公司: 大連創達專利代理事務所(普通合伙) 21237
• 代理人: 劉濤

1.一類萘酰亞胺光引發劑，其特征在于：結構如通式I所示，

通式I中：

R₁為O；

R₂選自H、NH₂、取代或未取代的苯基、取代的C_1-8烷基中的一種；其中，所述取代的C_1-8烷基中所指的取代基選自OH、SH、NH₂、NO₂、CN、COOH中的一種；

X和Y各自獨立的選自苯環不確定位置的取代基。

2.根據權利要求1所述的引發劑，其特征在于：所述取代的苯基中所指的取代基選自H、OH、SH、NH₂、NO₂、CN、COOH、C_1-8烷氧基、C_1-8烷基氨基、C_1-8酰胺基、鹵素或C_1-8鹵代烷基中的一種；

所述苯環不確定位置的取代基是選自H、OH、SH、NH₂、NO₂、CN、COOH、C_1-8烷氧基、C_1-8烷基氨基、C_1-8酰胺基、鹵素或C_1-8鹵代烷基中的一種。

3.如權利要求1所述的萘酰亞胺光引發劑的合成方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)式Ⅱ所示萘酐類化合物與式Ⅲ所示化合物在有機溶劑中加熱反應，得到式Ⅳ所示化合物，反應式如下：

(2)式IV所示化合物與丙烯酰氯在有機溶劑中低溫下反應，有機堿催化，親核取代得到式I所示化合物，反應式如下：

4.根據權利要求3所述的萘酰亞胺光引發劑的合成方法，其特征在于：還包括通過官能團修飾的方法引入取代基X、Y的步驟；所述的官能團修飾包括芳族取代反應、取代基的氧化與取代基的還原反應。

5.根據權利要求3所述的合成方法，其特征在于：步驟(1)中式Ⅱ所示萘酐類化合物與式Ⅲ所示化合物反應摩爾比為1∶1～8。

6.根據權利要求3所述的合成方法，其特征在于：步驟(1)中有機溶劑為無水有機試劑；反應溫度為60℃-150℃。

7.根據權利要求3所述的合成方法，其特征在于：步驟(2)中式Ⅳ所示化合物與丙烯酰氯反應的摩爾比為1:1～8。

8.根據權利要求3所述的合成方法，其特征在于：步驟(2)中有機溶劑選自丙酮、四氫呋喃或二氯甲烷中的至少一種；加入的有機堿選自三乙胺或吡啶；反應溫度為-10℃-10℃。

9.如權利要求1中所述的萘酰亞胺光引發劑的應用，其特征在于：包括涂料、油墨、3D打印、生物醫藥方面的應用。