[發(fā)明專利]一種防霧聚合物及其制備方法和應用

在審

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• 申請日: 2022-01-21
• 公開（公告）號: CN116516300A
• 公開（公告）日: 2023-08-01
• 發(fā)明（設計）人: 崔洪濤;劉召超;王晨睿;羅揚;趙玉瑩;安國成;安廣偉;滕超;閆惠剛;陳啟賀;米龍飛;黃昊;楊國濤;狄大衛(wèi)
• 申請（專利權）人: 青島理工大學
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/20;C23C14/35;G02B1/04;G02C7/02
• 代理公司: 青島合創(chuàng)知識產權代理事務所(普通合伙) 37264
• 代理人: 王曉曉

1.一種防霧聚合物的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）在聚合物上沉積無機薄膜；

（2）激光掃描所述步驟（1）中無機薄膜沉積后的聚合物表面，使聚合物表面形成微納米結構，得到防霧聚合物。

2.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述步驟（1）中無機薄膜包括鋁膜、硅膜、硅鋁混合膜；所述無機薄膜的沉積厚度為60?nm-1000?nm。

3.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述步驟（1）中沉積的方法包括磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)。

4.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述步驟（2）中激光掃描的額定功率為1?W-10000?W。

5.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述步驟（2）中激光掃描的激光光源為固態(tài)激光光源、氣相激光光源、紅外激光光源、二氧化碳激光光源、紫外激光光源、可見光激光光源、光纖激光光源和近場掃描光學顯微鏡激光光源中的至少一種。

6.根據權利要求5所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述激光光源的波長為20納米-100微米。

7.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述步驟（2）中激光掃描的速度為0.01?m/s-10?m/s，掃描間距≤1mm，填充模式為交叉填充。

8.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述聚合物包括樹脂眼鏡鏡片、溫室大棚塑料、均聚物、乙烯基聚合物、嵌段共聚物、碳化聚合物、芳族聚合物、環(huán)狀聚合物、聚酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯中的至少一種。

9.根據權利要求1所述的防霧聚合物的制備方法，其特征在于，所述制備方法能夠應用于聚合物一面，形成單側微納米結構；還能夠同時應用在聚合物兩面，形成雙側微納米結構。

10.權利要求1-9任一項所述的制備方法制備獲得的防霧聚合物在用于制備眼鏡、眼罩或溫室大棚中的應用，其特征在于，所述防霧聚合物包括基底聚合物和無機薄膜層，其表面具備微納米結構，接觸角≤5°。