[發明專利]一種新型真空鍍膜工藝室

在審

• 申請號: 202210060962.0
• 申請日: 2022-01-19
• 公開（公告）號: CN114231919A
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 張俊峰;趙子東;許春立;魏慶瑄
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/56;C23C14/50
• 代理公司: 上海尊肅專利代理事務所(普通合伙) 31454
• 代理人: 李珍珍

1.一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：該鍍膜工藝室為單元式結構，鍍膜工藝室包括由隔板(2)隔開的多個鍍膜單元室(1)，每個鍍膜單元室(1)結構一致；所述鍍膜工藝室包括端板(3)、閥室門板(4)、底板(5)、隔板(2)、側板(6)、沿口板(7)、U型加強筋(8)、連接腿板(9)、傳動支撐條(10)、觀察窗(11)、水冷法蘭(13)、真空法蘭(14)、濺射陰極蓋板(15)、分子泵蓋板(16)，鍍膜工藝室由相互首尾相連的兩個端板(3)、兩個端板(3)組成框架，框架的內腔等間隔設置有多個隔板(2)，隔板(2)將框架內腔分割成多個結構一致的鍍膜單元室(1)；

所述鍍膜單元室(1)的底部設置有底板(5)，其中一個側板(6)上安裝有用于連接真空計的真空法蘭(14)，另一個側板(6)的頂端設置有沿口板(7)，該側板(6)上還設置有水冷法蘭(13)、用于在設備工作過程中觀察產品及設備運行動態的觀察窗(11)；所述鍍膜單元室(1)上設置有濺射陰極蓋板(15)和分子泵蓋板(16)，濺射陰極蓋板(15)和分子泵蓋板(16)通過沿口板(7)實現密封。

2.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：所述隔板(2)上開設有用于玻璃或產品進出的出入通道(20)。

3.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：每個所述鍍膜單元室(1)的閥室門板(4)上均設置有控制門閥。

4.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：所述隔板(2)上間隔開設有多個作為分子泵單元的方孔(17)，用于將濺射陰極產生的多余的工藝氣體抽出，提供濺射單元所需氣壓穩定的氛圍。

5.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：所述鍍膜工藝室的端板(3)、分子泵蓋板(16)、濺射陰極蓋板(15)均采用雙道密封結構(18)。

6.根據權利要求5所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：每一個所述雙道密封結構(18)的中間均開設有抽真空孔(19)。

7.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：所述U型加強筋(8)設置在每個鍍膜單元室(1)的隔板(2)的內側，U型加強筋(8)的底部設置有連接腿板(9)。

8.根據權利要求1所述的一種新型真空鍍膜工藝室，其特征在于：所述鍍膜單元室(1)的底部間隔設置有多個傳動支撐條(10)，側板(6)上設置有用于安裝傳動電機的傳動電機法蘭(12)。