[發(fā)明專利]用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210060514.0
• 申請(qǐng)日: 2022-01-19
• 公開（公告）號(hào): CN114525674A
• 公開（公告）日: 2022-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚博;田欣;張國(guó)勝;程晨;王志強(qiáng);陳麗美;韓會(huì)峰;榮輝;李勝;王碩;謝道雄;史小龍;李志超;李仁會(huì);甄志嘉;趙團(tuán)真;趙亮;劉作亮;張鐵波;李建超;要智勇;李美慧;田靖;王海燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 河北鋼鐵集團(tuán)礦業(yè)有限公司
• 主分類號(hào): D06M10/10
• 分類號(hào): D06M10/10;D06M10/06;B01D39/08
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 13108
• 代理人: 陳長(zhǎng)庚

1.一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）將兩性聚合物改性劑和納米粒子分散在去離子水中配制成改性溶液，超聲處理使納米粒子均勻分散；所述改性溶液中兩性聚合物改性劑的質(zhì)量濃度為0.1-2wt%，納米粒子的質(zhì)量濃度為0.1-5wt%；

（2）將濾布浸泡入步驟（1）制備的改性溶液中，浸泡1-24h后取出，然后在50-70℃條件下加熱處理1-5h；

（3）以氯仿為溶劑，配制質(zhì)量濃度為0.1-1wt%的聚偏氟乙烯溶液，將步驟（2）處理后的濾布浸泡入上述聚偏氟乙烯溶液中，浸泡時(shí)間為1-5h；

（4）將步驟（3）處理后的濾布進(jìn)行紫外線輻照。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布的制備方法，其特征在于，步驟（1）所述兩性聚合物改性劑為兩性聚丙烯酰胺和聚磺酸鹽甜菜堿中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布的制備方法，其特征在于，步驟（1）所述納米粒子為碳納米管、氧化石墨烯、二氧化硅、MXene中的一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布的制備方法，其特征在于，步驟（2）所述濾布的材質(zhì)為聚丙烯、聚乙烯、聚苯硫醚、聚酰胺、聚酯中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布的制備方法，其特征在于，步驟（4）所述紫外線輻照時(shí)間為20分鐘-2小時(shí)。

6.一種用于真空過(guò)濾機(jī)的高性能抗結(jié)垢改性濾布，其特征在于，所述改性濾布由權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的制備方法制備而成。