[發(fā)明專(zhuān)利]晶圓表面缺陷檢測(cè)方法及其裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210055920.8 | 申請(qǐng)日: | 2022-01-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115127999A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王上棋;陳苗霈;吳翰宗;蔡佳琪;李依晴 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 環(huán)球晶圓股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/01 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/01;G01N21/88;G01N21/95 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 宋興;黃健 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹市*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 表面 缺陷 檢測(cè) 方法 及其 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種晶圓表面缺陷檢測(cè)方法及晶圓表面缺陷檢測(cè)裝置。所述方法包括:接收晶圓的掃描信息,其中所述掃描信息包括多個(gè)掃描參數(shù);決定所述掃描信息的至少一參考點(diǎn),并根據(jù)所述至少一參考點(diǎn)及參考值產(chǎn)生路徑信息;根據(jù)所述路徑信息取得所述掃描參數(shù)中對(duì)應(yīng)所述路徑信息的多個(gè)第一掃描參數(shù),以產(chǎn)生曲線(xiàn)圖;以及根據(jù)所述曲線(xiàn)圖判斷所述晶圓是否具有缺陷并判斷所述缺陷的缺陷類(lèi)型。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體晶圓的瑕疵檢測(cè)技術(shù),尤其涉及一種晶圓表面缺陷檢測(cè)方法及晶圓表面缺陷檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)
在電子元件出廠(chǎng)前,一般是由資深目檢人員對(duì)欲測(cè)試的電子元件進(jìn)行肉眼檢測(cè),以對(duì)所生產(chǎn)的電子元件是否存在缺陷或?qū)﹄娮釉欠衿教沟扰袛鄺l件進(jìn)行確認(rèn)。例如,在判定碳化硅(SiC)晶圓的平坦度時(shí),通常會(huì)先通過(guò)自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)(Automated OpticalInspection,AOI)設(shè)備獲得碳化硅晶圓的霧度(Haze)圖像,再通過(guò)人眼對(duì)霧度圖像進(jìn)行人工的判讀。
然而,由目檢人員進(jìn)行肉眼檢測(cè)的判讀方式?jīng)]有一致的標(biāo)準(zhǔn)可遵循,因此經(jīng)常會(huì)因?yàn)槟繖z人員各自的主觀判讀而造成誤判。因此如何避免依靠肉眼檢測(cè)而造成檢測(cè)結(jié)果過(guò)于主觀的問(wèn)題,實(shí)為本領(lǐng)域技術(shù)人員所關(guān)心的議題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種晶圓表面缺陷檢測(cè)方法及晶圓表面缺陷檢測(cè)裝置,能夠自動(dòng)辨識(shí)晶圓的掃描信息并且提高缺陷檢測(cè)的完整性以及準(zhǔn)確率。
本發(fā)明的一實(shí)施例提供一種晶圓表面缺陷檢測(cè)方法,適用于包括處理器的電子裝置。所述方法包括:接收晶圓的掃描信息,其中所述掃描信息包括多個(gè)掃描參數(shù);決定所述掃描信息的至少一參考點(diǎn),并根據(jù)所述至少一參考點(diǎn)及參考值產(chǎn)生路徑信息;根據(jù)所述路徑信息取得所述掃描參數(shù)中對(duì)應(yīng)所述路徑信息的多個(gè)第一掃描參數(shù),以產(chǎn)生曲線(xiàn)圖;以及根據(jù)所述曲線(xiàn)圖判斷所述晶圓是否具有缺陷并判斷所述缺陷的缺陷類(lèi)型。
在本發(fā)明的一范例實(shí)施例中,上述參考值包括至少一半徑。上述決定所述掃描信息的所述至少一參考點(diǎn),并根據(jù)所述至少一參考點(diǎn)及所述參考值產(chǎn)生所述路徑信息的步驟包括:計(jì)算所述掃描信息所對(duì)應(yīng)的所述晶圓的圓心作為所述至少一參考點(diǎn);以及基于所述至少一參考點(diǎn),根據(jù)所述至少一半徑?jīng)Q定至少一圓形路徑。
在本發(fā)明的一范例實(shí)施例中,上述根據(jù)所述路徑信息取得所述掃描信息的所述掃描參數(shù),以產(chǎn)生所述曲線(xiàn)圖的步驟包括:沿著所述至少一圓形路徑的方向,從所述掃描信息中所述至少一圓形路徑對(duì)應(yīng)的像素取得所述第一掃描參數(shù);以及根據(jù)所述第一掃描參數(shù)及取得所述第一掃描參數(shù)的順序產(chǎn)生所述曲線(xiàn)圖。
在本發(fā)明的一范例實(shí)施例中,上述參考值包括切片角度。上述決定所述掃描信息的所述至少一參考點(diǎn),并根據(jù)所述至少一參考點(diǎn)及所述參考值產(chǎn)生所述路徑信息的步驟包括:計(jì)算所述掃描信息的平口位置及所述掃描信息所對(duì)應(yīng)的所述晶圓的圓心;計(jì)算所述平口位置的中點(diǎn)作為第一參考點(diǎn),并以所述圓心作為第二參考點(diǎn);根據(jù)所述第一參考點(diǎn)及所述第二參考點(diǎn)決定參考路徑;以及根據(jù)參考路徑及所述切片角度決定穿心路徑。
在本發(fā)明的一范例實(shí)施例中,上述根據(jù)參考路徑及所述切片角度決定所述穿心路徑的步驟包括:根據(jù)所述切片角度計(jì)算旋轉(zhuǎn)角度;以及根據(jù)所述旋轉(zhuǎn)角度旋轉(zhuǎn)所述參考路徑以產(chǎn)生所述穿心路徑。
在本發(fā)明的一范例實(shí)施例中,上述根據(jù)所述路徑信息取得所述掃描參數(shù)中對(duì)應(yīng)所述路徑信息的所述第一掃描參數(shù),以產(chǎn)生所述曲線(xiàn)圖的步驟包括:沿著所述穿心路徑的方向,從所述掃描信息中所述穿心路徑對(duì)應(yīng)的像素取得所述第一掃描參數(shù);以及根據(jù)所述第一掃描參數(shù)及取得所述第一掃描參數(shù)的順序產(chǎn)生所述曲線(xiàn)圖。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
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