[發明專利]一種等離子體刻蝕機及其刻蝕方法

在審

• 申請號: 202210054707.5
• 申請日: 2022-01-18
• 公開（公告）號: CN114464517A
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發明（設計）人: 胡德立
• 申請（專利權）人: 胡德立
• 主分類號: H01J37/305
• 分類號: H01J37/305;H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種等離子體刻蝕機及其刻蝕方法，包括刻蝕箱，刻蝕箱上固設有放射箱，放射箱內開設有放射腔，刻蝕箱內開設有刻蝕腔，刻蝕腔的上側壁內開設有環形的連接腔，連接腔的上側連通設有氣箱，放射腔的周壁上固設有固定板，固定板的下端面上滑動連接有兩個左右對稱的弧形半滑套，半滑套的外周上纏繞有線圈，刻蝕腔的下端面上設有坩堝，坩堝的上端面上固設有能夠拆卸的放置臺，通過推塞，推動固定板上側氣體向下運動，保持兩個半滑套之間刻蝕氣體的濃度，通過保持氣體濃度，間接的增加了本發明的工作效率，通過半滑套的半徑變化，控制等離子的沖擊量，實現不同要求的刻蝕，通過改版線圈的圈數，進而改變等離子密度，提高刻蝕效果。

技術領域

本發明涉及等離子刻蝕技術領域，具體為一種等離子體刻蝕機及其刻蝕方法。

背景技術

等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

目前的大部分等離子刻蝕機進行工作時，可能出現離子體不均勻的在基片的表面進行轟擊，致使刻蝕作業效果不佳的情況，同時也無法快速調整刻蝕速率，降低生產效率。

發明內容

本發明的目的在于提供一種等離子體刻蝕機及其刻蝕方法，用于克服現有技術中的上述缺陷。

根據本發明的一種等離子體刻蝕機，包括刻蝕箱，所述刻蝕箱的上端面上固設有放射箱，所述放射箱內開設有放射腔，所述刻蝕箱內開設有刻蝕腔，所述刻蝕腔能夠與所述放射腔連通；

所述放射腔的左右兩側壁上均連通設有進氣管，所述刻蝕腔的上側壁內開設有環形的連接腔，所述連接腔的上側連通設有氣箱，所述連接腔能夠與所述刻蝕腔連通，所述氣箱與所述刻蝕箱固定連接，所述氣箱的上端面上連通有兩個左右對稱的出氣管；

所述放射腔的周壁上固設有固定板，所述固定板的下端面上滑動連接有兩個左右對稱的弧形半滑套，所述半滑套的外周上纏繞有線圈；

所述刻蝕箱的前端面上設有能夠上下滑動的滑動門，所述刻蝕腔的前側與所述刻蝕箱的外側連通，所述刻蝕腔的下端面上設有坩堝，所述坩堝的上端面上固設有能夠拆卸的放置臺。

優選的，所述放射箱的上端面上固設有升降電機，所述升降電機的下端面上動力連接有螺紋軸，所述螺紋軸的外周上固設有離心箱，所述放射腔的上側開設有離心腔，所述離心箱內連接有兩個左右對稱的離心彈簧，兩個所述離心彈簧相互遠離端均連接有離心塊，所述離心箱呈H形設置，所述離心腔的左右兩側壁上均連接誒有推簧，兩個所述推簧相互靠近端均連接有抵接板，所述抵接板抵接所述離心箱，所述螺紋軸的外周上螺紋連接有螺紋塊，所述螺紋塊的下端固設有推塞，所述推塞在所述放射腔內上下滑動，兩個是抵接板相互遠離端均連接有拉繩。

優選的，所述固定板內固設有止氣塊，所述止氣塊內開設有氣腔，所述氣腔上窄下寬設置，所述氣腔的止氣塊的下端固定連接有連接桿，所述連接桿的上端連接有推力彈簧，所述氣腔內設有能夠上下滑動的止氣球，所述止氣球的下端與所述推力彈簧連接，所述止氣球的上端連接有兩個左右對稱的連接繩，兩個所述連接繩向上延伸與對應的所述拉繩連接。

優選的，所述升降電機的下端面上固設有環形的固定箱，所述固定箱的上側開設有環形的動力腔，所述動力腔捏固設有動力電機，所述動力電機下端動力連接有齒輪，所述動力電機的上端動力連接有萬向節，所述固定箱內設有能夠轉動的齒圈，所述固定箱內設有兩個左右對稱能夠旋轉的齒輪，左右兩側的所述齒輪與所述齒圈嚙合，所述動力腔內設有能夠左右對稱的萬向節，位于左側的所述萬向節與所述動力電機動力連接，位于右側的所述萬向節與下側的所述齒輪固定連接，兩個所述萬向節相互靠近端均固定連接有螺紋套，兩個所述螺紋套內均螺紋配合有螺桿，兩個所述螺桿與對應的所述半滑套固定連接。