[發明專利]一種壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法在審
| 申請號: | 202210050734.5 | 申請日: | 2022-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN114632910A | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 郎文昌;蔣慧珍;張慧;劉艷杰;趙渙波;陳盛旭;林振宇;任肖煒 | 申請(專利權)人: | 溫州瑞明工業股份有限公司 |
| 主分類號: | B22C3/00 | 分類號: | B22C3/00;B22D17/22;C23C14/06;C23C14/32;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 溫州名創知識產權代理有限公司 33258 | 代理人: | 朱海曉 |
| 地址: | 325000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 壓鑄 模具 表面 納米 復合 多元 氧化物 涂層 制備 方法 | ||
1.一種壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:所述涂層由內到外分別為基礎層、復合過渡層、多層循環納米層;其中基礎層為AlCrN、復合過渡層為TiSiN/AlCrN復合層、多層循環納米層為TiSiAlCrCN/TiSiAlCrCON交替層;
所述制備方法于脈沖弧源真空鍍膜設備中進行,其配置有脈沖弧源和離子清洗裝置,所述脈沖弧源包括至少一列的金屬AlCr靶和兩列TiSi靶,所述脈沖弧源具有至少一組脈沖弧源為相向設置的AlCr靶和TiSi靶,相向設置的AlCr靶和TiSi靶分別位于待鍍模具的兩側,所述脈沖弧源具有至少一組脈沖弧源為相鄰設置的AlCr靶和TiSi靶;
所述制備方法包括以下步驟:
1) 將待鍍模具放入真空鍍膜裝置中,進行預熱;
2)采用離子清洗源對模具表面進行等離子清洗;
3)通入氮氣,開啟至少一列的AlCr靶,沉積AlCrN層;
4)通入氮氣,同時開啟一組相向設置的TiSi靶及AlCr靶,沉積AlCrN/TiSiN復合層;
5)通入乙炔、氮氣、氬氣,同時開啟一組相鄰設置的TiSi靶及AlCr靶,沉積TiSiAlCrCN層;
6)通入氧氣、乙炔、氮氣、氬氣,同時開啟一組相鄰設置的TiSi靶及AlCr靶,沉積TiSiAlCrCON層;
7)交替重復步驟5)和步驟6),形成多層循環納米層。
2.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:所述的基礎層厚度為300-1500納米,所述的復合過渡層厚度為100-800納米,多層循環納米層厚度為100-1000納米;所述TiSiAlCrCON層的厚度占多層循環納米層厚度的比例不高于30%。
3.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:兩列金屬AlCr靶和兩列TiSi靶按順時針方向分布依次為第一AlCr靶、第一TiSi靶、第二AlCr靶、第二TiSi靶,其中第一AlCr靶和第二TiSi靶相向設置分別位于待鍍模具的兩側;第一AlCr靶和第一TiSi靶形成的一組相鄰設置的TiSi靶及AlCr靶、第一TiSi靶和第二AlCr靶形成的一組相鄰設置的TiSi靶及AlCr靶、第二AlCr靶和第二TiSi靶形成的一組相鄰設置的TiSi靶及AlCr靶中的其中兩組或三組在步驟4)-6)中的至少部分過程中交替間隙使用。
4.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:步驟3)和步驟4)中,脈沖弧靶的脈沖弧放電采用基值電流疊加脈沖弧電流放電的方式,其基值電流為20-40A,高值脈沖電流為300-1500A,頻率為30-150Hz,占空比10-40%。
5.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:步驟5)中,乙炔、氮氣、氬氣混合為混合氣體通入,其中,氬氣所占的原子比不低于30%,氮氣所占原子比不高于60%,乙炔所占原子比不高于20%。
6.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:步驟6)中,氧氣、乙炔、氮氣、氬氣混合為混合氣體通入,其中,氬氣所占的原子比不低于30%,氮氣所占原子比不高于60%,乙炔所占原子比不高于20%,氧氣所占原子比不高于20%。
7.根據權利要求1所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:步驟5)與步驟6)沉積的單層時間為1-5min,其中步驟5)沉積的單層時間至少是步驟6)沉積的單層時間的3倍以上。
8.根據權利要求7所述的壓鑄鋁模具表面的納米復合多元碳氧化物涂層的制備方法,其特征在于:步驟5)、6)的循環次數不少于4次,碳氧化物層為涂層最外層。
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