[發明專利]一種三相復合清洗膜處理設備及其使用方法

在審

• 申請號: 202210047739.2
• 申請日: 2022-01-17
• 公開（公告）號: CN114477373A
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 朱羽廷
• 申請（專利權）人: 同濟大學建筑設計研究院（集團）有限公司
• 主分類號: C02F1/44
• 分類號: C02F1/44;B01D65/02;B01D65/04
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 余瑩

1.一種三相復合清洗膜處理設備，包括反應膜池，其特征在于，所述反應膜池內設置有多組板式陶瓷膜片，所述反應膜池一側上端設置有污水進水口，多組所述板式陶瓷膜片分別平行安裝于所述反應膜池內，所述板式陶瓷膜片上端接口安裝有水支管，所述水支管上端設置有負壓總管，所述水支管與所述負壓總管連接，所述水支管通過支架安裝于所述反應膜池上端，所述支架上端安裝有排污回流裝置，所述排污回流裝置包括顆粒分離機構和排泥機構，所述顆粒分離機構包括分離管和分離器，所述分離器與所述分離管連接，所述排污回流裝置與抽吸總管活動連接，所述排污回流裝置安裝于所述支架上端的滑動裝置上，所述滑動裝置安裝于反應膜池兩端的支撐板上，所述支撐板固定連接于所述反應膜池上，所述支撐板上端固定連接有滑動裝置，所述反應膜池底部設置有多組穿孔氣洗管，所述穿孔氣洗管與所述板式陶瓷膜片間歇設置。

2.根據權利要求1所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述滑動裝置包括下滑軌和上滑塊，所述下滑軌與上滑塊滑動連接，所述上滑塊上端連接排污回流裝置，所述上滑塊一側設置有移動電機，所述移動電機通過轉軸與所述上滑塊連接。

3.根據權利要求1所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述分離器下端安裝分離管，所述分離管固定安裝于所述滑動裝置一側，所述分離管伸入所述反應膜池內的板式陶瓷膜片上端，所述分離管與所述負壓總管垂直設置。

4.根據權利要求1所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述穿孔氣洗管包括內管與外管，所述內管嵌于所述外管內，所述內管包括上封閉圓板、前擋板和后擋板，所述前擋板和后擋板下端安裝有連接圓套，所述前擋板與所述后擋板嵌入所述外管內，所述外管下端與所述連接圓套連接，所述上封閉圓板與所述外管上端固定連接。

5.根據權利要求4所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述外管的外壁左側與右側設置有噴射孔，所述噴射孔設置于所述前擋板與所述后擋板之間，所述噴射孔設置在外管壁上呈順時針方向切線傾斜設置。

6.根據權利要求5所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述穿孔氣洗管設置于多組所述板式陶瓷膜片之間的空隙處，所述穿孔氣洗管在所述膜池內的高度小于所述板式陶瓷膜片的高度。

7.根據權利要求1所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述板式陶瓷膜片內部通道為倒楔形狀結構。

8.根據權利要求1所述的一種三相復合清洗膜處理設備，其特征在于，所述反應膜池內放置有污水和擦洗顆粒，所述擦洗顆粒為樹脂實心顆粒，所述擦洗顆粒為球狀顆粒，所述球狀顆粒周圈設置有擦除凸起，所述擦除凸起為梯形圓柱形狀，所述擦除凸起均勻設置于所述擦洗顆粒上。

9.一種三相復合清洗膜處理設備的使用方法，其特征在于，三相復合清洗膜處理設備為權利要求1到8任一權利要求所述的一種三相復合清洗膜處理設備，包括以下步驟：

S1：污水通過進水進口進入反應膜池中，通過板式陶瓷膜片內部抽吸形成內部負壓，將污水進行分離，顆粒污染物被隔離在板式陶瓷膜片外，清水流入膜中孔道，內部流道呈倒楔形方便清水向上匯集進入膜片頂部產水支管，最終匯總到負壓總管后被抽吸泵抽吸出，達到分離污水的目的；

S2：在抽吸分離過程中，板式陶瓷膜片表面的粘附物逐漸增多，分離效果變差，此時通過水、氣、擦洗顆粒的三相復合清洗工藝進行剝離，通過定期關閉產水抽吸泵停止吸水，轉而從負壓總管向水支管通入清水，形成水力反沖洗板式陶瓷膜片表面，沖洗方向與板式陶瓷膜片垂直；再此過程通過反應膜池底部設置穿孔氣洗管曝氣，氣體通過內管向外管流動，在流動過程中因外管設置有前擋板和后擋板，氣體向另外兩側流動，通過外管的噴射孔向外噴射，在噴射方向對準穿孔氣洗管兩側的板式陶瓷膜片表面上，此時水中含有大量的樹脂球狀顆粒，通過樹脂球狀顆粒表面設置的擦除凸起進行板式陶瓷膜片的表面擦洗，達到清洗的目的；

S3：再次過程中氣體形成的大中孔氣泡帶動樹脂球狀顆粒向上浮起擦洗膜的表面，擦洗方向與板面平行，同時根據板式陶瓷膜片受污染程度進行調節曝氣強度，實現擦洗的潔凈度；

S4：在傳統陶瓷膜固液分離工藝運行中，板式陶瓷膜片在進行過濾分離時，通過在清洗過程中為保證擦洗顆粒在反應膜池的濃度及活動力，通過排污回流裝置將擦洗顆粒進行回收分離再利用，通過分離器將擦洗顆粒再次投放進反應膜池中，同時在此過程中，由于板式陶瓷膜片受污染發生的部位不同，根據不同位置受污染程度，通過排污回流裝置一側設置滑動裝置將分離后的擦洗顆粒投送至受污染程度大的板式陶瓷膜片位置，通過增加擦洗顆粒濃度加快板式陶瓷膜片的清洗速度，完成對板式陶瓷膜片的清洗工作。