[發(fā)明專(zhuān)利]深紫外DUV連續(xù)波CW激光及產(chǎn)生DUV CW激光輻射的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210041743.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114389139A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 勇-霍·莊;陸曉旭;約翰·費(fèi)爾登 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01S3/109 | 分類(lèi)號(hào): | H01S3/109;H01S3/00;G02F1/35;G02F1/355 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 深紫 duv 連續(xù) cw 激光 產(chǎn)生 輻射 方法 | ||
1.一種深紫外DUV連續(xù)波CW激光器,其包括:
基波CW激光,其經(jīng)配置以產(chǎn)生具有在約1μm與1.1μm之間的對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)的基波頻率;
三次諧波產(chǎn)生器模塊,其經(jīng)配置以使用所述基波頻率的第一部分產(chǎn)生三次諧波;五次諧波產(chǎn)生器模塊,其包括:
多個(gè)光學(xué)元件,其形成以所述基波頻率的所述對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)而諧振的腔,所述多個(gè)光學(xué)元件經(jīng)配置以操作性地耦合所述三次諧波與所述腔中的所述基波頻率的第二部分;以及
第一NLO晶體和第二NLO晶體,其能夠操作以設(shè)置于所述腔中且共同經(jīng)配置以通過(guò)將所述第二基波頻率部分和所述三次諧波組合而產(chǎn)生五次諧波;
其中所述多個(gè)光學(xué)元件中的第一光學(xué)元件包括二向色曲面鏡,所述二向色曲面鏡經(jīng)配置以沿著所述腔光學(xué)路徑反射所述第二基波頻率部分并將所述三次諧波傳遞到所述腔中,使得所述三次諧波與所述第一NLO晶體中的所述第二基波頻率部分重疊;且
其中所述五次諧波產(chǎn)生器模塊進(jìn)一步包括經(jīng)配置以將所述三次諧波聚焦在所述第一NLO晶體內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)透鏡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其中形成所述腔的所述多個(gè)光學(xué)元件中的第二光學(xué)元件包括輸入耦合器,且其中所述五次諧波產(chǎn)生器模塊進(jìn)一步包括模式匹配透鏡,所述模式匹配透鏡經(jīng)配置以聚焦并經(jīng)由所述輸入耦合器而耦合所述腔中的所述第二基波頻率部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其中所述第一NLO晶體經(jīng)配置以通過(guò)合并所述第二基波頻率部分以及所述三次諧波而產(chǎn)生四次諧波。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光器,其中所述五次諧波產(chǎn)生器模塊進(jìn)一步包括設(shè)置于所述第一NLO晶體和所述第二NLO晶體之間的所述腔光學(xué)路徑中的一個(gè)或多個(gè)第二透鏡,且經(jīng)配置以聚焦所述第二基波頻率部分的未耗盡部分以及所述第二NLO晶體內(nèi)的所述四次諧波,使得所述五次諧波由所述未耗盡的基波頻率部分以及所述四次諧波的頻率總和產(chǎn)生。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光器,其中所述一個(gè)或多個(gè)第二透鏡包括一個(gè)或多個(gè)消色差透鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其中所述第一NLO晶體包括CLBO、CBO、LBO、LB4以及BBO中的一者。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其中所述第二NLO晶體包括CLBO、LB4以及BBO中的一者。
8.一種深紫外DUV連續(xù)波CW激光器,其包括:
基波CW激光,其經(jīng)配置以產(chǎn)生具有在約1μm與1.1μm之間的對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)的基波頻率;
三次諧波產(chǎn)生器模塊,其經(jīng)配置以使用所述基波頻率的第一部分產(chǎn)生三次諧波;五次諧波產(chǎn)生器模塊,其包括:
多個(gè)光學(xué)元件,其形成以所述基波頻率的所述對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)而諧振的腔,所述多個(gè)光學(xué)元件經(jīng)配置以操作性地耦合所述三次諧波以及所述腔中的所述基波頻率的第二部分;以及
第一NLO晶體和第二NLO晶體,其能夠操作以設(shè)置于所述腔中且共同經(jīng)配置以通過(guò)將所述第二基波頻率部分和所述三次諧波組合而產(chǎn)生五次諧波;
其中所述五次諧波產(chǎn)生器模塊進(jìn)一步包括第一分束器,所述第一分束器能夠操作以設(shè)置于所述腔光學(xué)路徑中且經(jīng)配置以將穿過(guò)所述第一NLO晶體的任何未耗盡的三次諧波轉(zhuǎn)移出所述腔。
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