[發(fā)明專利]一種透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202210030463.7
• 申請日: 2022-01-12
• 公開（公告）號(hào): CN114354140A
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高星;夏高飛;武耀霞;王華
• 申請（專利權(quán)）人: 西安中科微星光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 孟潔

1.一種透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、搭建光路，使激光通過雙縫分別與空間光調(diào)制器不同區(qū)域調(diào)制；

S2、通過圖像采集雙縫干涉光路，提取得到干涉條紋曲線；

S3、采用相位模型轉(zhuǎn)換計(jì)算出灰度相位曲線；

S4、通過計(jì)算圖像對比度，得到分別通過雙縫間的光強(qiáng)差異，得到振幅調(diào)制效果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法，其特征在于：

相位測量基于光程差與相位之間的原理，當(dāng)其中一縫光相位改變，雙縫干涉的條紋則會(huì)出現(xiàn)平移，即滿足下列關(guān)系式：

其中，∧為相鄰兩條干涉條紋之間的距離，為相位調(diào)制量；δ為條紋偏移量；

以灰度值為0的干涉條紋位置為基準(zhǔn)，灰度值為255的條紋位置與基準(zhǔn)位置的偏移量量為δ，兩條干涉條紋之間的距離為∧。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法，其特征在于：

振幅測量基于干涉光強(qiáng)與條紋對比度的原理，當(dāng)兩束光強(qiáng)(I₁和I₂)一致時(shí)，干涉條紋對比度最大，當(dāng)一束光強(qiáng)發(fā)生變化，條紋對比度會(huì)下降，關(guān)系式為：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法，其特征在于：

提取多行灰度值數(shù)據(jù)平均化以減小誤差，得到中心條紋的位置和光斑中心光強(qiáng)極大值與旁側(cè)極小值之間的對比度K1：

改變空間光調(diào)制器上的雙縫灰度，CCD采集到的干涉條紋發(fā)生移動(dòng)，雙縫中其中一條縫光強(qiáng)(I′₂)發(fā)生變化；

得到新的中心條紋位置和光強(qiáng)對比度K2：

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透射式空間光調(diào)制器相位和振幅調(diào)制特性的測量方法，其特征在于：

根據(jù)前后兩次中心條紋位置相減得到條紋移動(dòng)量δ，代入公式

可以得到相位調(diào)制量，根據(jù)K1、K2可以得到I₂/I′₂,即光強(qiáng)的對比度，得到振幅調(diào)制的特性。