[發明專利]一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置及其控制方法

在審

• 申請號: 202210026374.5
• 申請日: 2022-01-11
• 公開（公告）號: CN114372710A
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 劉龍
• 申請（專利權）人: 深圳市川菱科技有限公司
• 主分類號: G06Q10/06
• 分類號: G06Q10/06;G06K9/62
• 代理公司: 深圳華屹智林知識產權代理事務所(普通合伙) 44785
• 代理人: 陳建

1.一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置，包括攪拌裝置本體，所述攪拌裝置本體包括攪拌缸和攪拌棒，其特征在于，所述二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置還包括二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置控制系統，所述二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置控制系統包括控制器以及與所述控制器信號連接的功率傳感器和計時器；

所述功率傳感器用于獲取所述二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置的功率數據；所述計時器用于獲取所述二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置對拋光液的攪拌時長；

所述控制器用于獲取攪拌裝置在一段時間內的功率序列以及拋光液的均勻程度；所述功率序列為所述攪拌裝置在攪拌任意重量拋光液時的功率變化，所述均勻程度為所述拋光液被攪拌的均勻程度；根據所述拋光液的均勻程度以及所述攪拌裝置的功率序列獲取所述拋光液的評價指標，獲取一段時間內所述拋光液的評價指標構成評價指標序列；以不同重量的拋光液為樣本，獲取每個所述樣本的評價指標序列以及所述樣本對應的攪拌均勻時的攪拌時長；獲取所述樣本之間的樣本距離，根據所述樣本之間的樣本距離將所述樣本分為多個簇；根據待攪拌拋光液的重量為每個所述樣本分配權重；根據每個所述樣本的權重及其對應的攪拌時長得到所述待攪拌拋光液的預測攪拌時長，根據所述預測攪拌時長控制所述攪拌裝置停機。

2.根據權利要求1所述的一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置，其特征在于，所述根據所述拋光液的均勻程度以及所述攪拌裝置的功率序列獲取所述拋光液的評價指標的步驟，包括：

獲取所述攪拌裝置的功率序列的波動方差，所述拋光液的均勻程度與所述波動方差的比值為所述拋光液的評價指標。

3.根據權利要求1所述的一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置，其特征在于，所述獲取所述樣本之間的樣本距離的步驟，包括：

獲取所述樣本之間的相似程度，所述樣本距離與所述相似程度呈負相關關系。

4.根據權利要求3所述的一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置，其特征在于，所述獲取所述樣本之間的相似程度的步驟，包括：

獲取任意兩個所述樣本對應的評價指標序列之間的相似值，以及兩個所述樣本對應攪拌裝置的功率序列的差異值；所述相似程度與所述相似值呈正相關關系，與所述差異值呈負相關關系。

5.根據權利要求1所述的一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置，其特征在于，所述根據所述預測攪拌時長控制所述攪拌裝置停機的步驟之后，還包括：

獲取所述攪拌裝置停機之后所述拋光液的評價指標，根據所述評價指標得到所述拋光液攪拌完成的實際攪拌時長；計算所述實際攪拌時長與所述預測攪拌時長之間的誤差；當所述誤差大于預設閾值時，對所述拋光液對應簇內樣本的數據進行更新。

6.一種二氧化硅磨料拋光液制備用攪拌裝置的控制方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

獲取攪拌裝置在一段時間內的功率序列以及拋光液的均勻程度；所述功率序列為所述攪拌裝置在攪拌任意重量拋光液時的功率變化，所述均勻程度為所述拋光液被攪拌的均勻程度；

根據所述拋光液的均勻程度以及所述攪拌裝置的功率序列獲取所述拋光液的評價指標，獲取一段時間內所述拋光液的評價指標構成評價指標序列；

以不同重量的拋光液為樣本，獲取每個所述樣本的評價指標序列以及所述樣本對應的攪拌均勻時的攪拌時長；獲取所述樣本之間的樣本距離，根據所述樣本之間的樣本距離將所述樣本分為多個簇；

根據待攪拌拋光液的重量為每個所述樣本分配權重；根據每個所述樣本的權重及其對應的攪拌時長得到所述待攪拌拋光液的預測攪拌時長，根據所述預測攪拌時長控制所述攪拌裝置停機。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述根據所述拋光液的均勻程度以及所述攪拌裝置的功率序列獲取所述拋光液的評價指標的步驟，包括：

獲取所述攪拌裝置的功率序列的波動方差，所述拋光液的均勻程度與所述波動方差的比值為所述拋光液的評價指標。