[發明專利]噴嘴清洗裝置、噴嘴清洗方法以及涂敷裝置

在審

• 申請號: 202210026200.9
• 申請日: 2022-01-11
• 公開（公告）號: CN114950810A
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發明（設計）人: 竹市祐實;安陪裕滋;塩田明仁
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B15/555
• 分類號: B05B15/555;B05B15/50;B05C5/02
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 宋曉寶;向勇

1.一種噴嘴清洗裝置，對從設置于從噴嘴的主體部向下方突出的下端部的狹縫狀的噴出口噴出處理液的噴嘴進行清洗，其特征在于，

具有：

噴嘴抵接構件，與所述噴嘴的下端部自由抵接；

移動部，使所述噴嘴抵接構件以與所述噴嘴的下端部保持抵接的狀態在所述噴出口的延伸設置方向上相對于所述噴嘴相對地移動；以及

速度控制部，控制所述移動部對所述噴嘴抵接構件的移動速度；

在所述下端部設置有：突出部位，從所述主體部向下方突出的突出量為恒定；以及后退部位，隨著向所述延伸設置方向前進，所述突出量比所述突出部位的所述突出量連續地或非連續地減少而向所述主體側后退，

所述速度控制部在所述突出部位使所述噴嘴抵接構件以第一移動速度移動，另一方面，在所述噴嘴抵接構件從所述突出部位向所述后退部位移動時，使所述噴嘴抵接構件的移動速度從所述第一移動速度減速。

2.如權利要求1所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，

所述噴嘴抵接構件具有彈性，通過與所述下端部抵接而撓曲，通過解除與所述下端部的抵接而恢復為原來的形狀。

3.如權利要求2所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，

所述速度控制部在所述噴嘴抵接構件從所述突出部位向所述后退部位移動之前，開始所述噴嘴抵接構件的減速。

4.如權利要求2或3所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，

所述后退部位是在所述延伸設置方向上形成于所述噴嘴的所述下端部的中央部的切口部。

5.如權利要求4所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，

所述速度控制部在所述噴嘴抵接構件從所述后退部位向所述突出部位移動時，使所述噴嘴抵接構件的移動速度增速至所述第一移動速度，

所述速度控制部使所述噴嘴抵接構件從所述突出部位向所述后退部位移動時的所述噴嘴抵接構件的加速度的絕對值小于所述噴嘴抵接構件從所述后退部位向所述突出部位移動時的所述噴嘴抵接構件的加速度的絕對值。

6.一種噴嘴清洗方法，對從設置于從噴嘴的主體部向下方突出的下端部的狹縫狀的噴出口噴出處理液的噴嘴進行清洗，其特征在于，

包括：

第一工序，使噴嘴抵接構件與所述噴嘴的所述下端部抵接；以及

第二工序，使所述噴嘴抵接構件以與所述下端部保持抵接的狀態在所述噴出口的延伸設置方向上相對于所述噴嘴相對地移動，

所述第二工序包括以下工序：

在所述下端部中的從所述主體部向下方突出的突出量為恒定的突出部位，使所述噴嘴抵接構件以第一移動速度移動的工序；以及

在所述噴嘴抵接構件從所述突出部位向后退部位移動時，使所述噴嘴抵接構件的移動速度從所述第一移動速度減速的工序，其中，所述后退部位是隨著向所述延伸設置方向前進，所述突出量比所述突出部位的所述突出量連續地或非連續地減少而向所述主體部側后退的部位。

7.一種涂敷裝置，其特征在于，

具有：

噴嘴，從設置于從噴嘴的主體部向下方突出的下端部的狹縫狀的噴出口對基板噴出并供給處理液；以及

權利要求1至5中任一項所述的噴嘴清洗裝置。