[發(fā)明專利]基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件及包含其的光電探測器和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210023364.6 | 申請日: | 2022-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN114373825A | 公開(公告)日: | 2022-04-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱瑞;朱健;郝成龍;譚鳳澤 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳邁塔蘭斯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/109 | 分類號: | H01L31/109;H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/0232;B82Y20/00 |
| 代理公司: | 深圳市深佳知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 夏歡 |
| 地址: | 518101 廣東省深圳市寶安區(qū)新安街道*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 二維 材料 異質(zhì)結(jié) 器件 包含 光電 探測器 方法 | ||
本申請?zhí)峁┝艘环N基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件和包含其的光電探測器及方法,屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域。該基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件,包括納米結(jié)構(gòu)層和二維材料層;其中,所述納米結(jié)構(gòu)層包括多個陣列排布的納米結(jié)構(gòu),所述納米結(jié)構(gòu)為金屬;所述二維材料層包括至少一層各向異性二維材料;所述納米結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述至少一層各向異性二維材料的一側(cè),使所述納米結(jié)構(gòu)層與所述二維材料層形成異質(zhì)結(jié)。通過本申請實施例提供的基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件,通過各向異性二維材料和金屬納米結(jié)構(gòu)形成異質(zhì)結(jié)提高了該異質(zhì)結(jié)的響應(yīng)度和偏振敏感度,縮短了該異質(zhì)結(jié)器件的響應(yīng)時間,從而提高了包含該異質(zhì)結(jié)器件的光電探測器的性能。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件及包含其的光電探測器和方法。
背景技術(shù)
二維(2D,Two Dimensional)材料是指由單層原子、少數(shù)層原子或分子層組成的材料,層內(nèi)由較強的共價鍵或離子鍵連接,層間由范德華力連接。二維材料在一個維度的尺寸遠(yuǎn)小于光波長,使其具有卓越的光電特性,例如暗電流及噪聲低等。
由于二維材料具有卓越的光電特性,相關(guān)技術(shù)中采用二維材料代替三維的薄膜半導(dǎo)體以提高光電光電探測器的性能。
在實現(xiàn)本申請的過程中,發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)中至少存在如下問題:
雖然與三維薄膜半導(dǎo)體相比二維材料的光電性能卓越,但是二維材料的厚度僅為原子層厚度,這導(dǎo)致二維材料的透光率很高,造成二維材料的光吸收率不如薄膜半導(dǎo)體。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,為解決現(xiàn)有技術(shù)中二維材料光吸收率不足的技術(shù)問題,本申請實施例提供了一種基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件及包含其的光電探測器和方法。
第一方面,本申請實施例提供了一種基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件,包括納米結(jié)構(gòu)層和二維材料層;
其中,所述納米結(jié)構(gòu)層包括多個陣列排布的納米結(jié)構(gòu),所述納米結(jié)構(gòu)為金屬;
所述二維材料層包括至少一層各向異性二維材料;
所述納米結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述至少一層各向異性二維材料的一側(cè),使所述納米結(jié)構(gòu)層與所述二維材料層形成異質(zhì)結(jié)。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)層的填充率小于1;
其中,所述填充率為所述納米結(jié)構(gòu)層和所述二維材料層的重疊面積與所述二維材料層面積的比值。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)為貴金屬材料。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)層中納米結(jié)構(gòu)的形狀包括中心對稱圖形或軸對稱圖形。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)的形狀包括矩形、圓形、環(huán)形或十字形中的一種或多種。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)的周期大于或等于100nm,且小于或等于500nm。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)的高度大于或等于5nm,且小于或等于30nm。
可選地,所述二維材料層的材料包括黑磷、硫化錫、二砷化鍺、二硒化鈀、硒化鍺或硫化錸中的一種或多種。
可選地,所述二維材料層包括多種各向異性二維材料堆疊形成的異質(zhì)結(jié)。
第二方面,本申請實施例還提供了一種光電探測器,包括襯底、電極和如上述任一實施例提供的基于二維材料的異質(zhì)結(jié)器件;
其中,所述異質(zhì)結(jié)器件和所述電極設(shè)置在所述襯底表面;
所述電極和所述異質(zhì)結(jié)器件的二維材料層的兩端電連接,并且,所述電極與所述異質(zhì)結(jié)器件的納米結(jié)構(gòu)層不接觸。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)層的填充率小于1。
可選地,所述納米結(jié)構(gòu)層中納米結(jié)構(gòu)的材料為金。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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