[發(fā)明專利]一種電力設備支撐柱及其安裝方法、沉降高度消除方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202210018959.2 | 申請日: | 2022-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN114319416B | 公開(公告)日: | 2023-09-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 石驍;張肖峰;張端華;許饒;廖德芳;林剛;徐善柱;謝潁河 | 申請(專利權)人: | 中國能源建設集團廣東省電力設計研究院有限公司 |
| 主分類號: | E02D27/42 | 分類號: | E02D27/42;E02D27/34;E04H12/34 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 王澤高 |
| 地址: | 510000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電力設備 支撐 及其 安裝 方法 沉降 高度 消除 | ||
本發(fā)明涉及電力設備安裝技術領域,特別是涉及一種電力設備支撐柱及其安裝方法、沉降高度消除方法,電力設備支撐柱包括基座、設置在基座上的立柱、匹配套設在立柱上的筒體和多個支撐高度可調的支撐件,筒體的上端連接電力設備,立柱的下端外周側設有第二凸起部,筒體的下端外周側設有與第二凸起部上下相對布置的第一凸起部,筒體的上端連接電力設備;各支撐件的上下兩端分別連接第一凸起部和第二凸起部;當電力設備支撐柱發(fā)生沉降后,將支撐件的支撐高度調高,即可將電力設備支撐柱的沉降消除,因此,本發(fā)明的電力設備支架能夠消除地基沉降對電力設備所處高度的影響,不需要在基座下方設置復合地基或剛性樁基礎,施工快且造價低。
技術領域
本發(fā)明涉及電力設備安裝技術領域,特別是涉及一種電力設備支撐柱及其安裝方法、沉降高度消除方法。
背景技術
在變電站和換流站中需要使用大量的電力設備支撐柱,如避雷器支架、隔離開關支架、母線支架等。由于電力設備需要通過導線或開關機構與其他設備相連,因此對電力設備支撐柱有嚴格的沉降限值要求,例如開關類支架要求沉降量不超過30mm。
現(xiàn)有的電氣設備支架多采用單根鋼管立柱,在立柱頂部安裝相應的電氣設備以及導線,鋼管立柱底部與位于地下的基座連接。然而,當基座位于軟弱土或深厚回填土區(qū)域時,基座底部的土體在基座的壓力下會出現(xiàn)壓縮固結,因此,基座會出現(xiàn)緩慢沉降,當基座的沉降量超過允許值時,會影響電力設備的安全運行。
目前,為防止基座發(fā)生沉降,需要在基座下方設置復合地基或剛性樁基礎。復合地基施工時,需要采用水泥攪拌樁、高壓旋噴樁等方法進行地基處理,從而提高基座底部土體的承載力和壓縮模量,進而達到減小支架的后期沉降的目的。剛性樁基礎則需要在基座底部設置一根或多根剛性樁,剛性樁的向地下延伸值堅硬的基巖層,從而將基座的荷載傳遞到基巖上,進而避免設備支架下沉,采用剛性樁方案時,每個設備基座下部至少要設置一根樁,根據地質情況不同,樁型會采用鋼筋混凝土灌注樁或高強預應力管樁,長度通常在十幾米到三四十米不等。
在基座下方設置復合地基或剛性樁基礎雖能有效控制電氣設備支架的后期沉降,但均存在施工復雜、工期長、造價高的缺點。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是:現(xiàn)有的電力設備支撐柱,為防止沉降,需要在基座下方設置復合地基或剛性樁基礎,復合地基或剛性樁基礎的施工復雜、工期長、造價高。
為了解決上述技術問題,本發(fā)明提供了一種電力設備支撐柱,包括基座、設置在所述基座上并向上延伸的立柱、匹配套設在所述立柱上的筒體和多個支撐高度可調的支撐件;所述立柱的下端外周側設有第二凸起部,所述筒體的下端外周側設有與所述第二凸起部上下相對布置的第一凸起部,所述筒體的上端連接電力設備;
各所述支撐件沿所述筒體的周向間隔布置,各所述支撐件的上端均連接所述第一凸起部,各所述支撐件的下端均連接所述第二凸起部;各所述支撐件的支撐高度均可調節(jié),以使所述第一凸起部和所述第二凸起部之間的距離可調。
作為優(yōu)選方案,各所述支撐件均包括螺柱,各所述螺柱沿所述筒體的周向間隔布置,各所述螺柱的下端均與所述第二凸起部連接,各所述螺柱的上端均向上延伸并穿過所述第一凸起部,各所述螺柱上均螺接有第一螺母和第二螺母;
各所述第一螺母的上端均抵接所述第一凸起部的下端,各所述第二螺母的下端均抵接所述第一凸起部的上端。
作為優(yōu)選方案,所述筒體的下端外側設有沿所述筒體的徑向延伸的多個緊固件,各所述緊固件沿所述筒體的周向間隔布置,各所述緊固件的端部穿過所述筒體的側壁并抵接所述立柱的外周側。
作為優(yōu)選方案,所述筒體的中部外側設有沿所述筒體的軸向布置的第一刻度區(qū),所述第一刻度區(qū)的最下端刻度線與地面之間的距離為第一設定高度。
作為優(yōu)選方案,所述立柱的外側設有沿所述立柱的軸向布置的第二刻度區(qū),所述第二刻度區(qū)的最下端刻度線與所述筒體的下端面重合或位于所述筒體的下端面的下方。
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