[發(fā)明專利]刷洗裝置、晶圓、三維存儲(chǔ)器及存儲(chǔ)系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202210017789.6
• 申請(qǐng)日: 2022-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN114361079A
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王光毅;鄔良
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L27/11551;H01L27/11578;B08B1/02;B08B3/02
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 譚玲玲

1.一種刷洗裝置，其特征在于，所述刷洗裝置用于刷洗晶圓(10)，所述刷洗裝置包括：

晶圓驅(qū)動(dòng)部(20)，所述晶圓驅(qū)動(dòng)部(20)與所述晶圓(10)驅(qū)動(dòng)連接以驅(qū)動(dòng)所述晶圓(10)轉(zhuǎn)動(dòng)；

清洗刷組件(30)，所述清洗刷組件(30)包括多組清洗刷，所述多組清洗刷沿預(yù)定方向間隔布置，各組所述清洗刷均包括分別位于所述晶圓(10)的相對(duì)兩側(cè)且繞自身軸線可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置的兩個(gè)清洗刷，以清洗所述晶圓(10)的相應(yīng)的表面；

其中，所述預(yù)定方向平行于所述晶圓(10)的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刷洗裝置，其特征在于，

各組所述清洗刷中的兩個(gè)所述清洗刷之間呈V型夾角設(shè)置，所述的V型夾角的開口端的寬度為0.3mm至0.6mm；和/或

所述清洗刷的長(zhǎng)度大于或等于所述晶圓(10)的直徑。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刷洗裝置，其特征在于，所述多組清洗刷包括第一組清洗刷(301)和第二組清洗刷(302)，所述第一組清洗刷(301)位于所述第二組清洗刷(302)遠(yuǎn)離所述刷洗裝置的支撐基面的一側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刷洗裝置，其特征在于，所述第一組清洗刷(301)中的各個(gè)所述清洗刷的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線在所述晶圓(10)的表面上的投影與所述晶圓(10)的表面的圓心之間的距離為L(zhǎng)1，所述第二組清洗刷(302)中的各個(gè)所述清洗刷的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線在所述晶圓(10)的表面上的投影與所述晶圓(10)的表面的圓心之間的距離為L(zhǎng)2；其中，

L1小于L2；和/或

L1的取值為0mm；和/或

L2的取值范圍為65mm至85mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刷洗裝置，其特征在于，各個(gè)所述清洗刷均包括刷桿(31)，所述刷桿(31)為圓柱形桿體，所述刷桿(31)的外周面上設(shè)置有用于與所述晶圓(10)的表面接觸以對(duì)其進(jìn)行刷洗的多個(gè)刷洗部(32)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刷洗裝置，其特征在于，所述刷洗裝置包括供液裝置(40)，以用于向所述晶圓(10)的表面噴射清洗液。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的刷洗裝置，其特征在于，

所述供液裝置(40)包括位于所述多組清洗刷的上方的第一供液部；和/或

所述供液裝置(40)包括穿設(shè)在所述清洗刷的刷桿(31)中的第二供液部，所述刷桿(31)上設(shè)置有用于供清洗液流出的噴射孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的刷洗裝置，其特征在于，

所述供液裝置(40)包括供液管路(41)和設(shè)置在所述供液管路(41)上的噴頭(42)，所述供液管路(41)用于向所述噴頭(42)供應(yīng)清洗液，所述噴頭(42)用于向所述晶圓(10)的表面噴射清洗液。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刷洗裝置，其特征在于，所述晶圓驅(qū)動(dòng)部(20)包括多個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)輪(21)，多個(gè)所述驅(qū)動(dòng)輪(21)環(huán)繞所述晶圓(10)的周向間隔布置，且各個(gè)所述驅(qū)動(dòng)輪(21)均與所述晶圓(10)的外表面接觸，以通過多個(gè)所述驅(qū)動(dòng)輪(21)的轉(zhuǎn)動(dòng)來驅(qū)動(dòng)所述晶圓(10)轉(zhuǎn)動(dòng)。

10.一種晶圓，其特征在于，所述晶圓采用權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的刷洗裝置來進(jìn)行加工。

11.一種三維存儲(chǔ)器，其特征在于，包括由權(quán)利要求10所述的晶圓制作而成的半導(dǎo)體器件。

12.一種存儲(chǔ)系統(tǒng)，其特征在于，包括存儲(chǔ)控制器和權(quán)利要求11所述的三維存儲(chǔ)器，所述三維存儲(chǔ)器被配置為存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，所述存儲(chǔ)控制器耦合到所述三維存儲(chǔ)器并被配置為控制所述三維存儲(chǔ)器。