[發(fā)明專(zhuān)利]陣列基板及制作方法、顯示面板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202210014006.9 | 申請(qǐng)日: | 2022-01-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114296282A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 房聳;鄭會(huì)龍;井曉靜;李菁 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 昆山龍騰光電股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/1343;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 上海波拓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31264 | 代理人: | 李?lèi)?ài)華 |
| 地址: | 215301 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 制作方法 顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括基底(10)以及設(shè)于所述基底(10)上的掃描線(111)、數(shù)據(jù)線(131)、薄膜晶體管(T)和像素電極(151),所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)相互絕緣且交叉限定形成多個(gè)像素單元(P),每個(gè)所述像素單元(P)內(nèi)均設(shè)有所述薄膜晶體管(T)和所述像素電極(151),所述像素電極(151)通過(guò)所述薄膜晶體管(T)與臨近所述薄膜晶體管(T)的所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)電性連接,所述陣列基板上設(shè)有避讓槽(16)以及相較于所述避讓槽(16)凸出的支撐臺(tái)(17),所述支撐臺(tái)(17)位于所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)相互交叉處,所述避讓槽(16)環(huán)繞于所述支撐臺(tái)(17)的周緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板上設(shè)有平坦層(103),所述平坦層(103)設(shè)有與所述避讓槽(16)對(duì)應(yīng)的第一凹槽(161)以及與所述支撐臺(tái)(17)對(duì)應(yīng)的第一凸起(171),所述第一凸起(171)相較于所述第一凹槽(161)凸出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述平坦層(103)的上方設(shè)有公共電極(141),所述公共電極(141)在對(duì)應(yīng)第一凹槽(161)的區(qū)域形成第二凹槽(162)以及對(duì)應(yīng)所述第一凸起(171)的區(qū)域形成第二凸起(172)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板上設(shè)有平坦層(103)以及設(shè)于所述平坦層(103)上方的公共電極(141),所述公共電極(141)在對(duì)應(yīng)所述避讓槽(16)的區(qū)域斷開(kāi)或設(shè)有凹槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的陣列基板,其特征在于,所述像素電極(151)設(shè)于所述平坦層(103)的上方且與所述公共電極(141)位于不同層,所述像素電極(151)與所述公共電極(141)之間設(shè)有絕緣間隔層(104)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板,其特征在于,所述像素電極(151)設(shè)于所述公共電極(141)的上方,所述絕緣間隔層(104)在對(duì)應(yīng)避讓槽(16)的區(qū)域形成第三凹槽(162)以及對(duì)應(yīng)所述支撐臺(tái)(17)的區(qū)域形成第三凸起(172)。
7.一種陣列基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法用于制作如要求1-6任一項(xiàng)所述的陣列基板,所述制作方法包括:
提供基底(10)并在所述基底(10)的上方制作掃描線(111)、數(shù)據(jù)線(131)、薄膜晶體管(T)以及像素電極(151),所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)相互絕緣且交叉限定形成多個(gè)像素單元(P),每個(gè)所述像素單元(P)內(nèi)均設(shè)有所述薄膜晶體管(T)和所述像素電極(151),所述像素電極(151)通過(guò)所述薄膜晶體管(T)與臨近所述薄膜晶體管(T)的所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)電性連接;
在所述基底(10)的上方制作避讓槽(16)以及相較于所述避讓槽(16)凸出的支撐臺(tái)(17),所述支撐臺(tái)(17)位于所述掃描線(111)和所述數(shù)據(jù)線(131)相互交叉處,所述避讓槽(16)環(huán)繞于所述支撐臺(tái)(17)的周緣。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制作方法,其特征在于,在所述基底(10)的上方形成平坦層(103),采用掩模板(100)對(duì)所述平坦層(103)進(jìn)行曝光顯影,所述平坦層(103)形成與所述避讓槽(16)對(duì)應(yīng)的第一凹槽(161)以及與所述支撐臺(tái)(17)對(duì)應(yīng)的第一凸起(171),所述第一凸起(171)相較于所述第一凹槽(161)凸出。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制作方法,其特征在于,在所述基底(10)的上方形成平坦層(103)以及在所述平坦層(103)的上方形成第一透明材料層(14),對(duì)所述第一透明材料層(14)進(jìn)蝕刻并形成圖案化的公共電極(141),所述公共電極(141)在對(duì)應(yīng)所述避讓槽(16)的區(qū)域被斷開(kāi)或形成凹槽。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括如要求1-6任一項(xiàng)所述的陣列基板、與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置的彩膜基板(20)以及位于所述陣列基板和所述彩膜基板(20)之間的液晶層(30),所述陣列基板和所述彩膜基板(20)之間設(shè)有支撐柱(40),所述支撐柱(40)與所述陣列基板的支撐臺(tái)(17)相對(duì)應(yīng)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





