[發明專利]一種掩模缺陷檢測系統

在審

• 申請號: 202210009610.2
• 申請日: 2022-01-05
• 公開（公告）號: CN114442423A
• 公開（公告）日: 2022-05-06
• 發明（設計）人: 沙鵬飛;吳曉斌;王魁波;馬翔宇;尹皓玉;方旭晨;謝婉露;韓曉泉;李慧;羅艷;馬赫;譚芳蕊
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 谷波

1.一種掩模缺陷檢測系統，包括：真空腔體和隔振平臺，所述真空腔體位于所述隔振平臺上方，其特征在于，還包括：

激光器，用于作為系統光源產生激光；

光束整形系統，用于對所述激光進行光束整形；

退相干反射鏡，用于實現對所述激光的退相干；

光瞳轉換輪，用于光瞳選擇；

波帶片，用于對掩模上的缺陷進行成像；

法蘭，用于實現腔體之間的密封連接；

所述退相干反射鏡、所述光瞳轉換輪以及所述波帶片位于所述真空腔體內；

所述激光器產生的激光依次經過所述光束整形系統、所述法蘭、所述退相干反射鏡和所述光瞳轉換輪，照射到掩模上進行掩模缺陷檢測。

2.根據權利要求1所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述光束整形系統采用KB鏡，經過所述KB鏡整形后的照明光斑尺寸為100～300um。

3.根據權利要求1所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，還包括：

四爪狹縫，位于法蘭和所述退相干反射鏡之間，用于對光束整形后的光進行光斑尺寸微調；

所述激光器產生的激光在穿過所述法蘭后，再穿過所述四爪狹縫，以射入所述退相干反射鏡。

4.根據權利要求3所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述退相干反射鏡的反射面上具有周期性的階梯或者凹槽形狀的子反射面。

5.根據權利要求4所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述退相干反射鏡設置退相干反射角度，以使得所述激光以不小于6°的照明入射角照射待檢測掩模。

6.根據權利要求5所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述退相干反射鏡為平面鏡或球面鏡。

7.根據權利要求1～6任一項中所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，還包括：擺動臺；

所述退相干反射鏡設置在所述擺動臺上。

8.根據權利要求1～6任一項中所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述光瞳轉換輪為圓形或者方形。

9.根據權利要求1～6任一項中所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述波帶片為明場波帶片或暗場波帶片。

10.根據權利要求8所述的掩模缺陷檢測系統，其特征在于，所述光瞳轉換輪具有常規照明、環形照明、垂直雙極照明、水平雙極照明、四極照明、不對稱的四極照明光瞳轉換孔。