[發(fā)明專利]除草四唑化合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202180085020.1
• 申請日: 2021-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN116634873A
• 公開（公告）日: 2023-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·M·伯頓;N·J·泰勒;R·拉詹;S·阿姆斯特朗;A·希爾塞爾
• 申請（專利權(quán)）人: 先正達(dá)農(nóng)作物保護(hù)股份公司
• 主分類號(hào): A01N43/713
• 分類號(hào): A01N43/713
• 代理公司: 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 徐達(dá)

1.一種具有式(I)的化合物：

或其農(nóng)藝學(xué)上可接受的鹽，

其中：-

R¹選自由以下組成的組：C₁-C₄烷基-、C₁-C₄鹵代烷基-、C₁-C₄烷氧基-C₁-C₄烷基-和C₁-C₄鹵代烷氧基-C₁-C₄烷基-；

R²選自由以下組成的組：鹵素、C₁-C₆烷基-、C₁-C₃烷氧基-、C₁-C₆鹵代烷基-和-S(O)_pC₁-C₆烷基；

R³是C₁-C₆鹵代烷基；

R⁴選自由以下組成的組：C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基、C₃-C₆環(huán)烷基、C₁-C₃烷氧基-C₁-C₃-烷基-、C₃-C₆-環(huán)烷基-C₁-C₃烷基-、苯基和雜芳基，其中在化學(xué)上可行的情況下，所述苯基或雜芳基可以任選地被1至4個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組：鹵素、C₁-C₃-烷基、C₁-C₃烷氧基、C₁-C₃鹵代烷基、C₁-C₃-鹵代烷氧基和氰基；

R⁵是氫或C₁-C₃烷基；并且

p是0、1或2。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中，R¹選自由以下組成的組：甲基、乙基和正丙基。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中，R²選自由以下組成的組：甲基、Cl、-CF₃和-SO₂甲基。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化合物，其中，R²是Cl。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中，R³是-CF₃或-CHF₂。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中，R⁴選自由以下組成的組：C₁-C₆烷基、C₁-C₆鹵代烷基、C₃-C₆環(huán)烷基、C₁-C₃烷氧基-C₁-C₃-烷基-、C₃-C₆-環(huán)烷基-C₁-C₃烷基-、苯基和雜芳基，其中在化學(xué)上可行的情況下，所述苯基或雜芳基可以任選地被1至4個(gè)取代基取代，所述取代基獨(dú)立地選自由以下組成的組：鹵素、C₁-C₃-烷基、C₁-C₃烷氧基、C₁-C₃鹵代烷基、C₁-C₃-鹵代烷氧基和氰基。