[發(fā)明專利]澤山葵栽培系統(tǒng)及栽培方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202180077026.4 | 申請日: | 2021-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN116528661A | 公開(公告)日: | 2023-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 木場佑二;小林章洋;廣瀨貴文 | 申請(專利權(quán))人: | 宇部愛科喜模株式會社 |
| 主分類號: | A01G22/25 | 分類號: | A01G22/25 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11280 | 代理人: | 許峰;金丹 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 澤山葵 栽培 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種澤山葵栽培系統(tǒng),具有:
表土;
配置在該表土上,具有能夠使?jié)缮娇拿缲炌ǖ呢炌祝杆?0%以下的片狀或板狀的地面覆蓋構(gòu)件;及
配置在該地面覆蓋構(gòu)件之上,遍及所述地面覆蓋構(gòu)件的整個表面地保持栽培水的栽培水保持部,
栽培水從所述栽培水保持部穿過所述貫通孔向表土滲透。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
向所述栽培水保持部連續(xù)地供給栽培水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
所述栽培水保持部具有將所述地面覆蓋構(gòu)件的表面上的栽培水排出的表面水排出部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
所述澤山葵栽培系統(tǒng)具有滲透水排出部,該滲透水排出部配置在所述表土的下部,將滲透于表土的栽培水排出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
在所述地面覆蓋構(gòu)件的上表面具有使所述地面覆蓋構(gòu)件向所述表土緊貼的重物部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中任一項所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
所述澤山葵栽培系統(tǒng)具有控制從所述貫通孔向所述表土的栽培水的滲透量的滲透水控制部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
在所述地面覆蓋構(gòu)件具有不進行澤山葵的種植的第二貫通孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中任一項所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
所述澤山葵栽培系統(tǒng)具備:
鋪設(shè)有所述表土,在底面具有傾斜坡度的栽培槽;及
在所述栽培槽的底部相對于所述栽培水的流動方向而配設(shè)至所述栽培槽的最下游的一個或多個多孔管。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的澤山葵栽培系統(tǒng),其中,
所述多孔管的起點被規(guī)定在所述栽培槽的最上游與最下游之間。
10.一種澤山葵栽培方法,其中,
澤山葵栽培系統(tǒng)具有:
表土;
配置在該表土上,具有能夠使?jié)缮娇母o貫通的貫通孔,透水度50%以下的片狀或板狀的地面覆蓋構(gòu)件;及
配置在該地面覆蓋構(gòu)件之上,遍及所述地面覆蓋構(gòu)件的整個表面地保持栽培水的栽培水保持部,
所述澤山葵栽培方法使用所述澤山葵栽培系統(tǒng),執(zhí)行:
向所述栽培水保持部連續(xù)地供給栽培水的栽培水供給工序;
使栽培水從所述栽培水保持部穿過所述貫通孔向表土滲透的栽培水滲透工序;
將所述地面覆蓋構(gòu)件的表面上的栽培水排出的表面水排出工序;及
從所述表土的下部將滲透于表土的栽培水排出的滲透水排出工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的澤山葵栽培方法,其中,
使通過所述表面水排出工序排出的栽培水不進行循環(huán),而是從所述澤山葵栽培系統(tǒng)排出。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的澤山葵栽培方法,其中,
使通過所述滲透水排出工序排出的栽培水不進行循環(huán),而是從所述澤山葵栽培系統(tǒng)排出。
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