[發(fā)明專利]映射制造系統(tǒng)之間的度量在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202180052271.X | 申請日: | 2021-07-26 |
| 公開(公告)號: | CN116018560A | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | S·T·德茲沃特;R·德克斯;G·藍達;B·O·夫艾格金格奧爾 | 申請(專利權)人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 映射 制造 系統(tǒng) 之間 度量 | ||
1.一種用于使虛擬系統(tǒng)能夠模擬制造系統(tǒng)上的過程的非暫時性計算機可讀介質,所述介質上具有指令,所述指令在由計算機執(zhí)行時引起所述計算機:
找到制造系統(tǒng)矩陣,所述制造系統(tǒng)矩陣包括用于制造系統(tǒng)的第一校準數(shù)據(jù);
確定所述制造系統(tǒng)的襯底上的位置的反射率;
基于所述反射率和所述制造系統(tǒng)矩陣確定所述制造系統(tǒng)的強度度量,其中所述強度度量表示與所述襯底上的所述位置的反射率相關聯(lián)的強度;
找到虛擬系統(tǒng)矩陣,所述虛擬系統(tǒng)矩陣包括用于虛擬系統(tǒng)的第二校準數(shù)據(jù),其中所述虛擬系統(tǒng)被配置以表示多個不同的制造系統(tǒng);
基于所述制造系統(tǒng)矩陣和所述虛擬系統(tǒng)矩陣,確定用于將所述制造系統(tǒng)的強度度量映射到所述虛擬系統(tǒng)的相應的強度度量的權重;并且
基于所述權重和所述強度度量確定所述虛擬系統(tǒng)的映射的強度度量,從而模擬使用所述虛擬系統(tǒng)確定所述制造系統(tǒng)的強度度量。
2.根據(jù)權利要求1所述的介質,其中確定所述映射的強度度量包括:將所測量的通道強度的逐點線性變換結合,其中各個測量通道由入射-出射偏振、光柵到傳感器的旋轉度以及波長表征。
3.根據(jù)權利要求2所述的介質,其中確定所述映射的強度度量包括:映射直接來自光瞳上的不同點的各個強度,以及映射來自光瞳上的互反點的對應強度。
4.一種非暫時性計算機可讀介質,所述介質上具有指令,所述指令在由計算機執(zhí)行時引起所述計算機:
確定制造系統(tǒng)的強度度量,所述強度度量基于襯底上的位置的反射率和制造系統(tǒng)特性被確定;以及
確定參考系統(tǒng)的映射的強度度量,所述參考系統(tǒng)被配置成表示多個不同的制造系統(tǒng),所述參考系統(tǒng)具有參考系統(tǒng)特性,所述映射的強度度量基于所述制造系統(tǒng)的強度度量、所述制造系統(tǒng)特性以及所述參考系統(tǒng)特性被確定,從而模擬使用所述參考系統(tǒng)確定所述制造系統(tǒng)的強度度量。
5.根據(jù)權利要求4所述的介質,其中所述制造系統(tǒng)特性是包括用于所述制造系統(tǒng)的校準數(shù)據(jù)的矩陣,所述參考系統(tǒng)特性是包括用于所述參考系統(tǒng)的校準數(shù)據(jù)的矩陣。
6.一種確定映射的強度度量的方法,所述方法包括:
確定制造系統(tǒng)的強度度量,所述強度度量基于襯底上的位置的反射率和制造系統(tǒng)特性被確定;并且
確定參考系統(tǒng)的映射的強度度量,所述參考系統(tǒng)被配置成表示多個不同的制造系統(tǒng),所述參考系統(tǒng)具有參考系統(tǒng)特性,所述映射的強度度量基于所述制造系統(tǒng)的強度度量、所述制造系統(tǒng)特性以及所述參考系統(tǒng)特性被確定,從而模擬使用所述參考系統(tǒng)確定所述制造系統(tǒng)的強度度量。
7.根據(jù)權利要求6所述的方法,其中所述制造系統(tǒng)特性是包括用于所述制造系統(tǒng)的校準數(shù)據(jù)的矩陣,并且所述參考系統(tǒng)特性是包括用于所述參考系統(tǒng)的校準數(shù)據(jù)的矩陣。
8.根據(jù)權利要求6或7所述的方法,其中所述映射的強度度量包括:在給定襯底上的位置的反射率的情況下在所述參考系統(tǒng)上已經(jīng)觀察到的強度度量。
9.根據(jù)權利要求6-8中任一項所述的方法,其中所述參考系統(tǒng)是虛擬的,所述制造系統(tǒng)是物理實體的。
10.根據(jù)權利要求6-9中任一項所述的方法,其中確定所述映射的強度度量包括:將所測量的通道強度的逐點線性變換結合,其中各個測量通道由入射-出射偏振、光柵到傳感器的旋轉度以及波長表征。
11.根據(jù)權利要求6-10中任一項所述的方法,其中確定所述映射的強度度量包括:映射直接來自光瞳上的不同點的各個強度,并映射來自光瞳上的互反點的對應強度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于ASML荷蘭有限公司,未經(jīng)ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202180052271.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:緩沖膜
- 下一篇:經(jīng)由損失定性和定量的儀表漂移的實時確定





