[發明專利]復合膜

在審

• 申請號: 202180051741.0
• 申請日: 2021-09-02
• 公開（公告）號: CN116157195A
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: R·M·里普肯;E·許爾塔·馬丁內斯;成田岳史;M·C·G·M·美林克;亞茨科·赫辛
• 申請（專利權）人: 富士膠片制造歐洲有限公司;富士膠片株式會社
• 主分類號: B01D69/10
• 分類號: B01D69/10
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 宋珂;龐東成

1.一種復合膜，其包括：

a)包含第一多孔載體和存在于所述第一多孔載體的孔中的第一離子聚合物的第一層；

b)包含第二多孔載體和存在于所述第二多孔載體的孔中的第二離子聚合物的第二層；

c)包含第三多孔載體、第三離子聚合物和第四離子聚合物的第三層，其中所述第三離子聚合物存在于所述第三多孔載體的孔中；

其中：

(i)所述第一離子聚合物和所述第二離子聚合物中的一個是陽離子聚合物，而另一個是陰離子聚合物；

(ii)所述第三層c)介于所述第一層a)和所述第二層b)之間；

(iii)所述第三離子聚合物包括孔網絡，并且所述第四離子聚合物存在于所述第三離子聚合物的孔內；并且

(iv)所述第三離子聚合物和所述第四離子聚合物中的一個是陽離子聚合物，而另一個是陰離子聚合物。

2.如權利要求1所述的復合膜，其中第三離子聚合物可通過包括將所述第三離子聚合物與用于制備所述第三離子聚合物的組合物進行相分離的方法獲得。

3.如權利要求2所述的復合膜，其中所述相分離是聚合誘導的相分離。

4.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中第一可固化組合物與第四可固化組合物相同。

5.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中所述第三離子聚合物具有與所述第二離子聚合物相同的電荷。

6.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中所述第三離子聚合物和所述第四離子聚合物作為包含所述第三離子聚合物和所述第四離子聚合物的共連續網絡存在于所述第三層c)中。

7.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中存在于所述第一層a)、所述第二層b)和所述第三層c)中的多孔載體在化學和物理上相同。

8.如權利要求1至7中任一項所述的復合膜，其中存在于所述層a)、b)和c)中的兩個中的多孔載體在化學和物理上彼此相同，并且存在于所述層a)、b)和c)中的剩余層中的多孔載體在化學和/或物理上不同于存在于其他兩層中的多孔載體。

9.如權利要求1至7中任一項所述的復合膜，其中存在于所述層a)、b)和c)中的每一個中的多孔載體在化學和/或物理上不同于存在于所述層a)、b)和c)中的其他兩個中的多孔載體。

10.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中所述第一層a)、所述第二層b)和所述第三層c)各自獨立地具有10μm至200μm的平均厚度。

11.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其包含所述第一層a)和所述第三層c)之間的界面(第一界面)以及所述第三層c)和所述第二層b)之間的界面(第二界面)，并且所述第一界面和所述第二界面都是不間斷的，在所述第一層a)和所述第三層c)之間沒有任何間隙和/或空間，并且在所述第三層c)和所述第二層b)之間沒有任何間隙和/或空間。

12.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其包含所述第三離子聚合物和所述第四離子聚合物之間的界面，所述界面是不間斷的，在所述第三離子聚合物和所述第四離子聚合物之間沒有任何間隙和/或空間。

13.如前述權利要求中任一項所述的復合膜，其中所述第一離子聚合物可通過包括將第一可固化組合物固化的方法獲得，所述第一可固化組合物包括：

(a1)0至60重量％的具有一個烯鍵式不飽和基團和離子基團的可固化化合物；

(b1)1至88重量％的包含至少兩個烯鍵式不飽和基團和可選的離子基團的可固化化合物；

(c1)0至10重量％的自由基引發劑；以及

(d1)0至55重量％的溶劑。