[發明專利]用于為光學鏡片提供提高的耐磨性的方法及其裝置

在審

• 申請號: 202180032877.7
• 申請日: 2021-05-18
• 公開（公告）號: CN115552289A
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: M·J·洛克伍德
• 申請（專利權）人: 依視路國際公司
• 主分類號: G02B1/113
• 分類號: G02B1/113;G02B1/115;G02B1/14;G02B1/18
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 劉娜;張振軍

1.一種提高鏡片的耐磨性的方法，所述方法包括：

在真空沉積室內在鏡片基材的凸表面上沉積預定厚度的無機層；以及

將防污涂層作為所述鏡片的最頂層施加至所沉積的無機層的暴露表面上，其中

所述鏡片基材包括在基礎基材的凸表面上的硬涂層。

2.根據權利要求1所述的方法，其進一步包括：

將所述鏡片基材的凸表面暴露于離子束預清潔持續預定時間段。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，將所述鏡片基材的凸表面暴露于離子束預清潔的所述預定時間段在90秒與150秒之間。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述沉積的無機層是二氧化硅層。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述二氧化硅層的預定厚度是基于所述二氧化硅層的折射率和所述基礎基材的凸表面上的所述硬涂層的折射率。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，所述二氧化硅層的預定厚度大于100nm。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，所述沉積包括在真空沉積室內施加氧分壓。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，所述沉積包括以在0.2nm/s與1.5nm/s之間的速率在所述鏡片基材的凸表面上沉積無機材料。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，所施加的防污涂層是氟化材料。

10.一種具有耐磨性的鏡片，其包括：

鏡片基材，所述鏡片基材包括在基礎基材的凸表面上的硬涂層；

無機層，所述無機層在真空沉積室內被沉積在所述鏡片基材的硬涂層上，所述無機層具有預定厚度；以及

防污涂層，所述防污涂層在所述真空沉積室內作為所述鏡片的最頂層被施加至所述無機層的暴露表面，在所述鏡片從所述真空沉積室取回后所述防污涂層的表面被暴露于大氣。

11.根據權利要求10所述的鏡片，其中，所述基礎基材是聚碳酸酯，并且所述鏡片基材是離子束預清潔的鏡片基材。

12.根據權利要求10所述的鏡片，其中，所述無機層是二氧化硅層。

13.根據權利要求12所述的鏡片，其中，所述二氧化硅層的預定厚度是基于所述二氧化硅層的折射率和所述基礎基材的凸表面上的所述硬涂層的折射率。

14.根據權利要求12所述的鏡片，其中，所述二氧化硅層的預定厚度大于100nm。

15.根據權利要求10所述的鏡片，其中，所述防污涂層的暴露表面的接觸角在110°與115°之間。