[發明專利]圖樣檢查的重復缺陷檢測

在審

• 申請號: 202180032420.6
• 申請日: 2021-05-04
• 公開（公告）號: CN115485628A
• 公開（公告）日: 2022-12-16
• 發明（設計）人: 陳宏;K·吳;李曉春;J·A·史密斯;E·希夫林;駱青;M·庫克;W·W·司;L·余;B·布拉爾;N·帕特威瑞;N·特洛伊;R·尹宗扎
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/84;G01N21/956;G01N21/95;G01N21/88;G06T7/00;G06V10/764
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種配置成檢測光罩上的缺陷的系統，其包括：

檢驗子系統，其配置成針對晶片產生圖像，其中光罩用于在光刻工藝中將特征印刷在所述晶片上；以及

一或多個計算機子系統，其配置成用于：

檢測包含于所述圖像中的至少第一測試圖像和第二測試圖像中的第一缺陷，其中檢測所述第一缺陷包括分別比較所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的每一個與對應于所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的所述每一個的兩個不同參考圖像，且其中所述至少第一測試圖像和第二測試圖像對應于印刷于所述晶片上的所述光罩上的同一區域的不同例項；

通過分別比較針對所述第一測試圖像產生的堆疊測試圖像與對應于所述堆疊測試圖像的兩個不同堆疊參考圖像而檢測至少所述第一測試圖像中的堆疊缺陷；

通過識別在所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的兩個或更多個中的對應位置處檢測到的所述第一缺陷中的任一個和所述堆疊缺陷中的任一個作為第一重復缺陷候選項來執行第一重復缺陷檢測；

對所述第一重復缺陷候選項執行至少一個額外重復缺陷檢測以借此識別最終重復缺陷候選項；以及

基于所述最終重復缺陷候選項識別所述光罩上的缺陷。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述檢驗子系統進一步配置成針對所述晶片或訓練晶片上的預選主裸片產生圖像，且其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于在檢測到所述第一缺陷以及檢測到所述堆疊缺陷之前執行至少所述不同參考圖像與針對所述預選主裸片產生的所述圖像的執行時間對準。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述檢驗子系統進一步配置成針對所述晶片或訓練晶片上的預選參考裸片產生圖像，且其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于從針對所述預選參考裸片產生的所述圖像選擇所述兩個不同參考圖像以用于分別與所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的所述一個進行比較。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述檢驗子系統進一步配置成針對訓練晶片上的預選參考裸片產生圖像，且其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于存儲所述預選參考裸片的所述圖像且動態地從針對所述預選參考裸片產生的所述圖像產生所述兩個不同參考圖像以用于分別與所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的所述每一個進行比較。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述檢驗子系統進一步配置成針對所述晶片或訓練晶片上的預選參考裸片產生圖像，且其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于將所述預選參考裸片分成第一群組和第二群組，從針對所述第一群組中的所述預選參考裸片產生的所述圖像產生所述兩個不同參考圖像中的第一個以用于分開地與所述第一測試圖像進行比較，以及從針對所述第二群組中的所述預選參考裸片產生的所述圖像產生所述兩個不同參考圖像中的第二個以用于分開地與所述第一測試圖像進行比較。

6.根據權利要求5所述的系統，其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于基于產生所述第一測試圖像的所述晶片上的裸片的位置而選擇所述第一群組和所述第二群組的所述預選參考裸片。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于在執行所述至少一個額外重復缺陷檢測之前基于所述第一重復缺陷候選項的局部和全局信噪比而對所述第一重復缺陷候選項濾波。

8.根據權利要求7所述的系統，其中所述一或多個計算機子系統進一步配置成用于確定所述第一重復缺陷候選項的所述局部信噪比，且其中確定所述局部信噪比包括確定通過所述分別比較所述至少第一測試圖像和第二測試圖像中的所述每一個與所述兩個不同參考圖像而產生的每一差異圖像中的所述第一重復缺陷候選項中的一個的位置處的信噪比，即使在所述每一差異圖像中未檢測到所述第一重復缺陷候選項中的所述一個。