[發明專利]用于光化學過程的多邊形連續流反應器在審
| 申請號: | 202180017373.8 | 申請日: | 2021-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN115175760A | 公開(公告)日: | 2022-10-11 |
| 發明(設計)人: | R·C·布羅爾斯馬;A·W·M·德貝斯特;H·J·B·賈格特;J·M·詹森;N·A·M·斯維格斯 | 申請(專利權)人: | 昕諾飛控股有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/12 | 分類號: | B01J19/12;B01J19/24;C02F1/30;C02F1/32 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 楊飛 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 光化學 過程 多邊形 連續流 反應器 | ||
1.一種光反應器組件(1),包括反應器(30),其中所述反應器(30)被配置為用于容納要使用光源輻射(11)處理的流體(100),所述光源輻射(11)選自UV輻射、可見輻射和IR輻射中的一種或多種,其中所述反應器(30)包括透射所述光源輻射(11)的反應器壁(35),其中
-所述反應器(30)是管式反應器(130),并且其中所述反應器壁(35)限定所述管式反應器(130);
-所述管式反應器(130)被配置為呈管式布置(1130);
-所述光反應器組件(1)還包括光源布置(1010),所述光源布置(1010)包括被配置為生成所述光源輻射(11)的多個光源(10),其中所述反應器壁(35)被配置為與所述多個光源(10)成輻射接收關系;以及
-其中所述管式布置(1130)和所述光源布置(1010)均限定具有相互平行配置的多邊形側邊(59)的多邊形(50)。
2.根據權利要求1所述的光反應器裝置(1),其中所述管式布置(1130)包括經盤繞的管式布置(1131),其中所述管式反應器(130)以螺旋方式盤繞。
3.根據權利要求1所述的光反應器裝置(1),其中所述管式反應器包括反應器內壁(351)和反應器外壁(352),所述反應器內壁(351)和所述反應器外壁(352)一起限定所述管式反應器(130),其中所述反應器內壁(351)和所述反應器外壁(352)中的一者或多者透射所述光源輻射(11),并且其中所述管式布置(1130)包括平直管式布置(1132)。
4.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),其中所述管式布置(1130)和所述光源布置(1010)均限定具有相互平行配置的多邊形側邊(59)的多邊形(50),并且其中所述多邊形(50)均包括4個至10個多邊形側邊(59)。
5.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),其中所述多個光源(10)的至少第一子集圍合所述管式布置(1130)。
6.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),其中所述多個光源(10)的至少第二子集被所述管式布置(1130)圍合。
7.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),其中所述光反應器組件(1)包括一個或多個冷卻元件(95),其中所述一個或多個冷卻元件(95)包括以下各項中的一項或多項:(i)一個或多個流體輸送通道(7)和(ii)一個或多個導熱元件(2),其中所述一個或多個冷卻元件(95)與以下中的一者或多者熱接觸:(a)所述反應器(30)和(b)所述光源(10)中的一個或多個光源。
8.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),還包括反應器支撐元件(40),所述反應器支撐元件(40)被配置為支撐所述反應器(30),其中所述反應器支撐元件(40)包括支撐本體(45),其中所述支撐本體(45)旋轉對稱,其中所述管式反應器(130)的至少一部分被配置為與所述支撐本體(45)熱接觸,并且其中一個或多個導熱元件(2)由所述支撐本體(45)構成、或與所述支撐本體(45)熱接觸。
9.根據前述權利要求中任一項所述的光反應器組件(1),其中所述光反應器組件(1)包括若干個光源元件(19);其中每個光源元件(19)包括所述多個光源(10)中的一個或多個光源(10),其中所述光源元件(19)中的每個光源元件包括被配置為與所述光源(10)熱接觸的至少一個導熱元件(2),其中所述光源元件(19)包括位于所述光源元件(19)的面向所述反應器壁(35)的表面(190)處的反射元件(1011),其中所述反射元件(1011)反射所述光源輻射(11),其中所述管式反應器(130)和所述光源元件(19)在所述管式反應器(130)與所述光源元件(19)之間限定一個或多個流體輸送通道(7),其中所述管式反應器(130)與所述光源元件(19)之間的最小距離限定流體輸送通道寬度(d),其中所述流體輸送通道寬度(d)選自1mm至5mm的范圍。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昕諾飛控股有限公司,未經昕諾飛控股有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202180017373.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





