[發(fā)明專利]粗糙化鍍鎳板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202180009900.0 | 申請(qǐng)日： | 2021-01-22 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN114981483A | 公開（公告）日： | 2022-08-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 堀江慎一郎;堤悅郎;小柳利文;吉岡興;高野杏子;小幡駿季;原田聰子;桂啟志;上野美里 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東洋鋼鈑株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C25D5/16 | 分類號(hào)： | C25D5/16;C25D3/12;C25D5/14 |
| 代理公司： | 北京格羅巴爾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11406 | 代理人： | 項(xiàng)軍花 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 粗糙 化鍍鎳板 | ||
1.一種粗糙化鍍鎳板，其在金屬基材的至少一個(gè)表面具有由多個(gè)鎳突起物形成的粗糙化鎳層作為最表層，
對(duì)于所述粗糙化鍍鎳板，進(jìn)行基于聚焦離子束加工觀察裝置(FIB-SEM)的測(cè)定，由通過所述聚焦離子束加工觀察裝置得到的拍攝圖像，測(cè)定各高度位置處的、所述粗糙化鎳層的狀態(tài)時(shí)，
從鎳占有率為90％的高度位置DNi90％至鎳占有率為50％的高度位置DNi50％之間的、鎳占有率的變化比率相對(duì)于高度變化的絕對(duì)值Crate(Ni90％＿Ni50％)為65％/μm以下，
從高度方向上的所述粗糙化鎳層的基端位置向表面?zhèn)?.0μm的高度位置處的、鎳占有率C2.0為15％以上，
從所述基端位置向表面?zhèn)?.0μm的高度位置處的、多個(gè)鎳突起物的存在個(gè)數(shù)N2.0為20個(gè)/136.5μm2以上。
2.一種粗糙化鍍鎳板，其在金屬基材的至少一個(gè)表面具有由多個(gè)鎳突起物形成的粗糙化鎳層作為最表層，
對(duì)于所述粗糙化鍍鎳板，進(jìn)行基于聚焦離子束加工觀察裝置(FIB-SEM)的測(cè)定，由通過所述聚焦離子束加工觀察裝置得到的拍攝圖像，測(cè)定各高度位置處的、所述粗糙化鎳層的狀態(tài)時(shí)，
從鎳占有率為80％的高度位置DNi80％至鎳占有率為50％的高度位置DNi50％之間的、所述鎳突起物的截面的圓當(dāng)量直徑的平均值Rave(Ni80％＿Ni50％)為0.6μm以上，
從高度方向上的所述粗糙化鎳層的基端位置向表面?zhèn)?.0μm的高度位置處的、鎳占有率C2.0為15％以上，
從所述基端位置向表面?zhèn)?.0μm的高度位置處的、多個(gè)鎳突起物的存在個(gè)數(shù)N2.0為20個(gè)/136.5μm2以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的粗糙化鍍鎳板，其中，所述金屬基材為由選自Fe、Cu、Al和Ni中的一種純金屬形成的金屬板或金屬箔、或?yàn)橛砂x自Fe、Cu、Al和Ni中的一種的合金形成的金屬板或金屬箔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的粗糙化鍍鎳板，其中，所述金屬基材為鋼板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的粗糙化鍍鎳板，其中，所述金屬基材的厚度為0.01～2.0mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的粗糙化鍍鎳板，其中，在所述金屬基材上還具備基底鎳層，
所述粗糙化鎳層隔著所述基底鎳層而形成于金屬基材上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的粗糙化鍍鎳板，其中，鍍鎳層的附著量為5.0～50.0g/m2。
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