[發明專利]防眩性硬涂薄膜、防眩性硬涂薄膜的制造方法、光學構件和圖像顯示裝置在審
| 申請號: | 202180004606.0 | 申請日: | 2021-02-04 |
| 公開(公告)號: | CN114144702A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發明(設計)人: | 橋本尚樹;中川大五郎;島谷和宏;波多野良知;安藤豪彥;中田美惠 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | G02B1/14 | 分類號: | G02B1/14;G02B5/02;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防眩性硬涂 薄膜 制造 方法 光學 構件 圖像 顯示裝置 | ||
1.一種防眩性硬涂薄膜,其特征在于,在透光性基材(A)上層疊有防眩性硬涂層(B),
所述防眩性硬涂層(B)由樹脂層形成,在所述樹脂層內部包含第1顆粒和第2顆粒,
所述第1顆粒與所述第2顆粒的質量的合計相對于形成所述樹脂層的樹脂的總質量為2~25質量%,
在所述防眩性硬涂薄膜中的所述防眩性硬涂層(B)側的最表面形成有凹凸,
所述第1顆粒的重均粒徑滿足下述數學式(1),
所述第2顆粒的重均粒徑滿足下述數學式(2),
所述最表面的凹凸形狀滿足下述數學式(3)和(4),
3.0<d1≤8.5[μm] (1)
1.0≤d2≤3.0[μm] (2)
Ry:1.0≤Ry≤7.0[μm] (3)
θa:1.0≤θa≤7.5[°] (4)
所述數學式(1)中,d1為所述第1顆粒的重均粒徑[μm],
所述數學式(2)中,d2為所述第2顆粒的重均粒徑[μm],
所述數學式(3)中,Ry為所述凹凸的凸部的最大高度[μm],
所述數學式(4)中,θa為所述凹凸的平均傾斜角[°]。
2.根據權利要求1所述的防眩性硬涂薄膜,其中,所述第2顆粒的質量的合計相對于形成所述樹脂層的樹脂的總質量為1質量%以上。
3.根據權利要求1或2所述的防眩性硬涂薄膜,其中,在所述防眩性硬涂薄膜中,起因于所述凹凸的外部霧度值為5%以上。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的防眩性硬涂薄膜,其中,所述第1顆粒的質量的合計相對于所述第2顆粒的質量的合計為2/3以上。
5.一種權利要求1至4中任一項所述的防眩性硬涂薄膜的制造方法,其特征在于,其包括在所述透光性基材(A)上以滿足所述數學式(1)~(4)的方式形成所述防眩性硬涂層(B)的防眩性硬涂層(B)形成工序,
所述防眩性硬涂層(B)形成工序包括:在所述透光性基材(A)上涂覆涂覆液的涂覆工序;和使所涂覆的所述涂覆液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序,
所述涂覆液包含所述樹脂、所述第1顆粒、所述第2顆粒和溶劑。
6.根據權利要求5所述的制造方法,其中,在所述涂覆工序中,以1000mm以上的寬度將所述涂覆液連續涂覆500m以上。
7.根據權利要求5或6所述的制造方法,其中,所述防眩性硬涂層(B)形成工序還包括使所述涂膜固化的固化工序。
8.一種光學構件,其包括權利要求1至4中任一項所述的防眩性硬涂薄膜。
9.根據權利要求8所述的光學構件,其為偏光板。
10.一種圖像顯示裝置,其包括權利要求1至4中任一項所述的防眩性硬涂薄膜、或者權利要求8或9所述的光學構件。
11.根據權利要求10所述的圖像顯示裝置,其為公共信息顯示器。
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