[發(fā)明專利]一種天線、探測裝置和終端

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202180001896.3
• 申請(qǐng)日: 2021-05-31
• 公開（公告）號(hào): CN113490860A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陶駿;楊小盼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華為技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01S7/02
• 分類號(hào): G01S7/02;G01S13/931;H01Q1/32;H01Q1/38;H01Q5/10;H01Q5/20;H01Q5/307;H01Q21/00
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1.一種天線，其特征在于，

所述天線包括金屬地板、介質(zhì)板以及微帶輻射結(jié)構(gòu)，所述金屬地板和所述微帶輻射結(jié)構(gòu)分別設(shè)置在所述介質(zhì)板兩側(cè)；

所述微帶輻射結(jié)構(gòu)包括第一輻射單元和第二輻射單元；

其中，所述第一輻射單元為所述微帶輻射結(jié)構(gòu)上的凸起結(jié)構(gòu)形成的輻射單元，所述第二輻射單元為所述微帶輻射結(jié)構(gòu)上的凹陷結(jié)構(gòu)形成的輻射單元，所述第一輻射單元支持第一頻段，所述第二輻射單元支持第二頻段。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的天線，其特征在于，

所述微帶輻射結(jié)構(gòu)包括多個(gè)第一輻射單元；和/或

所述微帶輻射結(jié)構(gòu)包括多個(gè)第二輻射單元。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的天線，其特征在于，

至少一組相鄰的兩個(gè)第一輻射單元之間具有第二輻射單元。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第一輻射單元中存在至少兩組相鄰第一輻射單元，所述兩組相鄰第一輻射單元的中心距離相等，或者所述兩組相鄰第一輻射單元的中心距離不等。

5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任一所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第二輻射單元中存在至少兩組相鄰第二輻射單元，所述兩組相鄰第二輻射單元的中心距離相等，或者所述兩組相鄰第二輻射單元的中心距離不等。

6.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第一輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的同一側(cè)；或

所述多個(gè)第一輻射單元中的第一部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第一側(cè)，所述多個(gè)第一輻射單元中的第二部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第二側(cè)，其中，所述第一側(cè)與所述第二側(cè)為所述微帶輻射結(jié)構(gòu)中相對(duì)的兩側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的天線，其特征在于，所述多個(gè)第一輻射單元中的第一部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第一側(cè)，所述多個(gè)第一輻射單元中的第二部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第二側(cè)，包括：

位于第二側(cè)的第一輻射單元與位于第一側(cè)的第二輻射單元對(duì)應(yīng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求2至5任一所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第二輻射單元可以均設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的同一側(cè)；或

所述多個(gè)第二輻射單元中的第一部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第一側(cè)，所述多個(gè)第二輻射單元中的第二部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第二側(cè)，其中，所述第一側(cè)與所述第二側(cè)為所述微帶輻射結(jié)構(gòu)中相對(duì)的兩側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的天線，其特征在于，所述多個(gè)第二輻射單元中的第一部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第一側(cè)，所述多個(gè)第二輻射單元中的第二部分輻射單元設(shè)置在所述微帶輻射結(jié)構(gòu)的第二側(cè)，包括：

位于第二側(cè)的第二輻射單元與位于第一側(cè)的第一輻射單元對(duì)應(yīng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求2至9任一所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第一輻射單元中的任意兩個(gè)輻射單元的形狀相同；

所述多個(gè)第一輻射單元中的部分輻射單元的形狀相同；或

所述多個(gè)第一輻射單元中的任意兩個(gè)輻射單元的形狀不同。

11.根據(jù)權(quán)利要求2至10任一所述的天線，其特征在于，

所述多個(gè)第二輻射單元中的任意兩個(gè)輻射單元的形狀相同；

所述多個(gè)第二輻射單元中的部分輻射單元的形狀相同；或

所述多個(gè)第二輻射單元中的任意兩個(gè)輻射單元的形狀不同。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至11任一所述的天線，其特征在于，

所述第一輻射單元的形狀為以下一種形狀或者以下多種形狀組合成的形狀：

扇形，半圓形，圓形，橢圓形，三角形，四邊形，或多邊形。