[實(shí)用新型]一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202123456522.7
• 申請(qǐng)日: 2021-12-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN216686728U
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳常良
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇思爾德科技有限公司
• 主分類號(hào): B65H18/10
• 分類號(hào): B65H18/10;B65H23/26
• 代理公司: 蘇州翔遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32251
• 代理人: 王華

一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備，包括依次設(shè)置的放卷腔、工藝腔和收卷腔，工藝腔內(nèi)設(shè)置有加熱板；放卷腔內(nèi)依次設(shè)置有放卷輥、第一支撐輥、第一調(diào)節(jié)輥，收卷腔內(nèi)依次設(shè)置有第二調(diào)節(jié)輥、第二支撐輥和收卷輥；第一支撐輥與第二支撐輥的外部套設(shè)有支撐布且漲緊設(shè)置，支撐布位于加熱板的上方；第一調(diào)節(jié)輥與第二調(diào)節(jié)輥均位于支撐布的下方，第一調(diào)節(jié)輥與第二調(diào)節(jié)輥均與支撐布抵觸設(shè)置；第二支撐輥與收卷輥均為主動(dòng)輥軸。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)改變了傳統(tǒng)薄膜基材懸空傳送方式；解決了張力過(guò)大，引起薄膜基材褶皺變形問(wèn)題；解決了張力過(guò)小，基材與加熱板摩擦劃傷的問(wèn)題；解決了傳動(dòng)軸與水氧阻隔膜直接接觸的問(wèn)題；改善了基材進(jìn)工藝腔初期溫升延時(shí)的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種傳送設(shè)備，具體涉及一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，傳統(tǒng)的真空沉積設(shè)備，如圖1所示，包括依次設(shè)置的放卷腔、工藝腔和收卷腔，放卷腔內(nèi)依次設(shè)置有軸1、軸2、軸3，工藝腔內(nèi)設(shè)置有加熱板，收卷腔內(nèi)設(shè)置有軸4、軸5、軸6。從放卷腔的軸1進(jìn)行薄膜基材的放卷，收卷腔的軸6主動(dòng)旋轉(zhuǎn)進(jìn)行收卷；薄膜基材在工藝腔中通過(guò)加熱板的熱輻射作用進(jìn)行升溫，同時(shí)在工藝腔上方有反應(yīng)氣體進(jìn)入工藝腔，進(jìn)行水氧阻隔膜的沉積。

傳統(tǒng)真空沉積設(shè)備的缺點(diǎn)：一、傳統(tǒng)技術(shù)在傳送過(guò)程中，使用了較多的傳動(dòng)輥（如圖中軸2、軸3、軸4、軸5），其中軸5是和基材表面沉積的阻隔膜層直接接觸；過(guò)大的壓力或是滑動(dòng)摩擦力都會(huì)使膜層受到致命性破壞。二、由于輥的摩擦作用，使得主動(dòng)軸產(chǎn)生的拉緊張力，不能很好的均勻的分布于薄膜基材各個(gè)跨度上；設(shè)備通過(guò)收卷腔的主動(dòng)軸提供拉緊張力，使薄膜基材近似水平狀態(tài)傳輸；但是由于拉緊張力過(guò)大，會(huì)導(dǎo)致薄膜有嚴(yán)重變形褶皺產(chǎn)生；如果減少?gòu)埩Γ∧せ脑诠に嚽恢杏捎诳缍却螅瑫?huì)因?yàn)橹亓ο麓惯^(guò)大（如圖2所示）與加熱板表面或是其他部件接觸產(chǎn)生劃傷，使產(chǎn)品外觀及功能上均產(chǎn)生致命缺陷。三、由于薄膜基材在經(jīng)過(guò)加熱板上方時(shí)，通過(guò)熱輻射進(jìn)行加熱（基材與加熱板無(wú)直接接觸），使得基材在剛進(jìn)入工藝腔時(shí)，并沒(méi)有很好的工藝溫度，影響了初始膜層的性能。導(dǎo)致原因：一、主動(dòng)軸產(chǎn)生的張力不能很好傳送到整個(gè)基材；二、基材上表面的水氧膜不能經(jīng)歷變形，以及受摩擦作用影響；三、基材是通過(guò)熱輻射加熱的，有一定的溫升延遲時(shí)間。

因此，設(shè)計(jì)了一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備來(lái)解決上述問(wèn)題。

應(yīng)該注意，上面對(duì)技術(shù)背景的介紹只是為了方便對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的說(shuō)明，并方便本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解而闡述的。不能僅僅因?yàn)檫@些方案在本實(shí)用新型的背景技術(shù)部分進(jìn)行了闡述而認(rèn)為上述技術(shù)方案為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。

發(fā)明內(nèi)容

為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型目的在于提供一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備。

為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案是：一種用于薄膜真空鍍膜的新型傳送設(shè)備，包括依次設(shè)置的放卷腔、工藝腔和收卷腔，所述工藝腔內(nèi)設(shè)置有加熱板；所述放卷腔內(nèi)依次設(shè)置有放卷輥、第一支撐輥、第一調(diào)節(jié)輥，所述收卷腔內(nèi)依次設(shè)置有第二調(diào)節(jié)輥、第二支撐輥和收卷輥；所述第一支撐輥與所述第二支撐輥的外部套設(shè)有支撐布且漲緊設(shè)置，所述支撐布位于所述加熱板的上方；所述第一調(diào)節(jié)輥與所述第二調(diào)節(jié)輥均位于所述支撐布的下方，所述第一調(diào)節(jié)輥與所述第二調(diào)節(jié)輥均與所述支撐布抵觸設(shè)置；所述第二支撐輥與所述收卷輥均為主動(dòng)輥軸。

優(yōu)選的技術(shù)方案為：所述第一調(diào)節(jié)輥與所述第二調(diào)節(jié)輥均可移動(dòng)式設(shè)置，用于調(diào)節(jié)所述支撐布的支撐力。

優(yōu)選的技術(shù)方案為：所述第一支撐輥的直徑與所述第二支撐輥的直徑相等。

優(yōu)選的技術(shù)方案為：所述第一調(diào)節(jié)輥的直徑與所述第二調(diào)節(jié)輥的直徑相等。

優(yōu)選的技術(shù)方案為：所述第一調(diào)節(jié)輥的直徑小于所述第一支撐輥的直徑，所述第一調(diào)節(jié)輥位于所述第一支撐輥的右方內(nèi)側(cè)；所述第二調(diào)節(jié)輥的直徑小于所述第二支撐輥的直徑，所述第二調(diào)節(jié)輥位于所述第二支撐輥的左方內(nèi)側(cè)。

優(yōu)選的技術(shù)方案為：所述支撐布的外表面設(shè)置有防磨層。