[實用新型]一種能夠減少介質殘留量的真空泵式容器

有效

• 申請號: 202123451706.4
• 申請日: 2021-12-31
• 公開（公告）號: CN216510193U
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 翁鐵建;翁蘭球
• 申請（專利權）人: 江天精密制造科技(蘇州)有限公司
• 主分類號: B65D47/34
• 分類號: B65D47/34
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;章榮

1.一種能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，包括管體以及與所述管體連接的出膏殼體，所述管體上設置有泵室殼體，所述泵室殼體內設置有上活塞，所述上活塞連接有浮動管，其特征在于：所述出膏殼體內固定設置有出膏管；出膏管包括滑動插接于所述浮動管內的過渡段，以及與所述過渡段連接的引出段；所述引出段上遠離所述過渡段的一端形成出膏口；所述過渡段的內徑小于所述引出段的內徑。

2.根據權利要求1所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述出膏管與出膏殼體為一體成型。

3.根據權利要求1所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述引出段的內壁與過渡段的內壁之間設置有轉角斜面。

4.根據權利要求1所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述管體內設置有下活塞，且所述管體內頂壁呈平面設置。

5.根據權利要求4所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述下活塞包括第一活塞板以及連接于所述第一活塞板側邊的第一活塞唇，所述第一活塞板的頂壁與所述第一活塞唇的頂壁齊平。

6.根據權利要求1所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述上活塞包括第二活塞板以及連接于所述第二活塞板側邊的第二活塞唇，所述第二活塞板的底壁與所述第二活塞唇的底壁齊平。

7.根據權利要求6所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述泵室殼體的底端設置有下閥門，且所述泵室殼體內側壁設置有與所述下閥門配合的限位部，所述下閥門的頂壁與所述限位部的頂壁齊平。

8.根據權利要求1所述的能夠減少介質殘留量的真空泵式容器，其特征在于：所述出膏殼體連接于所述泵室殼體外側壁。