[實(shí)用新型]一種氣密性測(cè)試裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202123225883.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-12-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN216899490U | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王響;王艷艷;王洪升;欒強(qiáng);邢政鵬;唐建新;程洪浩;宋奎明;張斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東工業(yè)陶瓷研究設(shè)計(jì)院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M3/26 | 分類號(hào): | G01M3/26 |
| 代理公司: | 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 趙奕 |
| 地址: | 255000 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氣密性 測(cè)試 裝置 | ||
1.一種氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:包括基座,所述基座內(nèi)設(shè)有檢測(cè)室、安裝槽,
所述檢測(cè)室一端與安裝槽連通,另一端與檢測(cè)設(shè)備連通;
所述安裝槽內(nèi)設(shè)有密封件,所述密封件與檢測(cè)室的距離可調(diào)形成用于容納待檢工件的空間;
所述密封件內(nèi)設(shè)有與檢測(cè)室位置相對(duì)應(yīng)的氣體通道;
還包括用于對(duì)待檢工件粘接位置施壓的施力機(jī)構(gòu),所述施力機(jī)構(gòu)的施力點(diǎn)位于氣體通道內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:還包括殼體,所述殼體為保溫材質(zhì)且殼體內(nèi)設(shè)有加熱體,所述基座位于殼體內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述施力機(jī)構(gòu)包括施力桿,所述施力桿和密封件之間還設(shè)有定位件,所述氣體通道設(shè)于定位件內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:
所述殼體上設(shè)有第一通道,所述施力桿一端穿過(guò)第一通道延伸至殼體外側(cè)并連接施力設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述殼體上設(shè)有第二通道,所述第二通道與檢測(cè)設(shè)備連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:
還包括設(shè)于殼體外側(cè)的第一冷卻部和第二冷卻部,
第一冷卻部上設(shè)有與第一通道連通的第三通道,所述施力桿穿過(guò)第一通道、第三通道與施力設(shè)備連接;
第二冷卻部上設(shè)有與第二通道連通的第四通道,所述第四通道與檢測(cè)設(shè)備連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述第一冷卻部和第二冷卻部上均設(shè)有冷卻液進(jìn)口和冷卻液出口。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述殼體為非密閉殼體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述檢測(cè)設(shè)備為打壓設(shè)備或者真空泵。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣密性測(cè)試裝置,其特征在于:所述殼體底部還設(shè)有底座。
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G01M 機(jī)器或結(jié)構(gòu)部件的靜或動(dòng)平衡的測(cè)試;其他類目中不包括的結(jié)構(gòu)部件或設(shè)備的測(cè)試
G01M3-00 結(jié)構(gòu)部件的流體密封性的測(cè)試
G01M3-02 .應(yīng)用流體或真空
G01M3-38 .應(yīng)用光照
G01M3-40 .應(yīng)用電裝置,例如,觀察放電現(xiàn)象
G01M3-04 ..通過(guò)在漏泄點(diǎn)檢測(cè)流體的出現(xiàn)
G01M3-26 ..通過(guò)測(cè)量流體的增減速率,例如,用壓力響應(yīng)裝置,用流量計(jì)
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