[實用新型]一種翻轉(zhuǎn)浸釉機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202123129057.6 | 申請日: | 2021-12-13 |
| 公開(公告)號: | CN216543882U | 公開(公告)日: | 2022-05-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂宣儒;呂慶杰;王富坤 | 申請(專利權(quán))人: | 河北斯羅米克科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B28B11/04 | 分類號: | B28B11/04 |
| 代理公司: | 北京博觀達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11977 | 代理人: | 徐晶石 |
| 地址: | 063000 河北省唐山市*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 翻轉(zhuǎn) 浸釉機 | ||
本實用新型公開了一種翻轉(zhuǎn)浸釉機,包括機架、釉池、釉循環(huán)系統(tǒng)、升降結(jié)構(gòu)、翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)、清理結(jié)構(gòu)、污水處理結(jié)構(gòu),所述升降結(jié)構(gòu)包括步進電機、立柱、升降平臺,所述翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)包括真空吸管、吸盤平臺、減速電機、同步帶裝置、真空發(fā)生器,所述清理結(jié)構(gòu)包括擦口對位氣缸、擺臺氣缸、擦面對位氣缸、高低位氣缸、擦面驅(qū)動電機,本實用新型的翻轉(zhuǎn)浸釉機解決了現(xiàn)有的大件陶瓷產(chǎn)品上釉沒有自動化設(shè)備,大部分工作由人工操作的技術(shù)問題,從而大大提高了工作效率,節(jié)約了人工成本,避免采用大型夾具節(jié)約設(shè)備空間,降低成本,方便浸釉,使大型陶瓷產(chǎn)品浸釉完全。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及浸釉機技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種翻轉(zhuǎn)浸釉機。
背景技術(shù)
現(xiàn)實的陶瓷生產(chǎn)活動中,現(xiàn)有的大件陶瓷產(chǎn)品上釉沒有自動化設(shè)備,大部分工作由人工手拿產(chǎn)品,將產(chǎn)品放入釉漿池內(nèi)進行浸泡,同時在釉池內(nèi)翻轉(zhuǎn),使釉漿附著到產(chǎn)品的所有表面,在浸泡一定時間后,把產(chǎn)品從釉池內(nèi)取出來,完成上釉過程。在這一過程中,工人需要全程抱著產(chǎn)品,由于大件陶瓷產(chǎn)品平均重量在8kg左右,工人勞動強度較高,同時還要以經(jīng)驗去判斷浸泡時間,產(chǎn)品質(zhì)量與工人技術(shù)水平直接相關(guān),不利于規(guī)范化生產(chǎn)。此外,大型機械夾具夾取大件陶瓷產(chǎn)品時容易損壞、破壞大件陶瓷產(chǎn)品,產(chǎn)生大量瑕疵品;釉池內(nèi)的釉漿易沉淀,大大影響大件陶瓷產(chǎn)品的上釉效果;也不能實現(xiàn)自動化清理的功能,因此設(shè)計一款翻轉(zhuǎn)浸釉機迫在眉睫。
實用新型內(nèi)容
(一)解決的技術(shù)問題
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實用新型提供了一種翻轉(zhuǎn)浸釉機,以解決上述背景技術(shù)中提出大件陶瓷產(chǎn)品上釉沒有自動化設(shè)備、大型機械夾具夾取大件陶瓷產(chǎn)品時容易損壞、破壞大件陶瓷產(chǎn)品、釉池內(nèi)的釉漿易沉淀,大大影響大件陶瓷產(chǎn)品的上釉效果;也不能實現(xiàn)自動化清理的功能的問題。
(二)技術(shù)方案
為實現(xiàn)以上目的,本實用新型通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn):一種翻轉(zhuǎn)浸釉機,包括機架、釉池、釉循環(huán)系統(tǒng)、升降結(jié)構(gòu)、翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)、清理結(jié)構(gòu)、污水處理結(jié)構(gòu),所述升降結(jié)構(gòu)、釉循環(huán)系統(tǒng)、污水處理結(jié)構(gòu)設(shè)置于釉池后側(cè),所述升降結(jié)構(gòu)包括步進電機、立柱、升降平臺,所述立柱的頂部安裝所述步進電機,所述步進電機通過聯(lián)軸器與滾珠絲杠相連,所述絲杠上安裝有升降平臺,所述升降平臺與翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)固定,所述翻轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)包括真空吸管、吸盤平臺、減速電機、同步帶裝置、真空發(fā)生器,所述減速電機的轉(zhuǎn)動軸與真空吸管的轉(zhuǎn)動軸通過同步帶裝置連接,所述吸盤平臺固定于真空吸管上,所述真空吸管內(nèi)部中空,所述真空發(fā)生器通過真空吸管與吸盤平臺上吸件孔連接,所述釉循環(huán)系統(tǒng)與釉池連接,所述釉池和清理結(jié)構(gòu)固定于機架的前側(cè),所述清理結(jié)構(gòu)包括擦口對位氣缸、擺臺氣缸、擦面對位氣缸、高低位氣缸、擦面驅(qū)動電機,所述擺臺氣缸的轉(zhuǎn)動軸與擦面對位氣缸固定,所述擦面對位氣缸與高低位氣缸固定,所述擦面驅(qū)動電機與高低位氣缸固定,所述擦面驅(qū)動電機的轉(zhuǎn)動軸與擦面海綿固定,所述擦口對位氣缸固定于擺臺氣缸的下方。
進一步優(yōu)選的,所述升降平臺通過滑塊與立柱上的導(dǎo)軌連接。
進一步優(yōu)選的,所述釉池內(nèi)部還設(shè)有進釉管、過濾池、回釉口,所述釉池通過隔板分隔為進釉區(qū)和回釉區(qū),所述進釉管鋪設(shè)于進釉區(qū)底部,且所述進釉管上設(shè)有多個進釉口,所述回釉區(qū)的上方安裝過濾池,靠近所述過濾池的隔板上開設(shè)有槽口,所述回釉口設(shè)置于回釉區(qū),且所述回釉口和所述進釉管都與釉循環(huán)系統(tǒng)連接。
進一步優(yōu)選的,所述釉循環(huán)系統(tǒng)包括釉泵、釉桶,所述釉泵設(shè)置于釉桶內(nèi)側(cè),且所述釉泵與進釉管連接,所述釉桶與回釉口連接。
進一步優(yōu)選的,所述污水處理結(jié)構(gòu)包括污水泵、沉淀水池、清洗水槽,所述清洗水槽安裝于清理結(jié)構(gòu)的一側(cè),所述清洗水槽通過管道與沉淀水池連接,所述沉淀水池與污水泵連接。
進一步優(yōu)選的,所述清洗水槽包括存水槽、擠水槽、擠水平臺,所述擠水平臺上開設(shè)有多個槽,所述擠水平臺安裝在擠水槽上方,所述擠水槽通過管道與沉淀水池連接,所述污水泵通過管道與存水槽連接。
進一步優(yōu)選的,所述擦口對位氣缸與擦口海綿連接。
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