[實用新型]一種可自動清理雜質的電鍍槽有效
| 申請號: | 202122806315.3 | 申請日: | 2021-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN216473548U | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發明(設計)人: | 施漢 | 申請(專利權)人: | 唐山匯金金屬制品有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/02 | 分類號: | C25D17/02;C25D21/00 |
| 代理公司: | 廣州中粵知識產權代理事務所(普通合伙) 44752 | 代理人: | 楊毅宇 |
| 地址: | 063100 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 自動 清理 雜質 電鍍 | ||
本實用新型提供了一種可自動清理雜質的電鍍槽,包括電鍍槽本體,所述電鍍槽本體包括用于懸掛待電鍍物的懸架,所述懸架可沿豎直方向垂直運動,從而實現待電鍍物于電鍍液的接觸或分離,還包括:清潔結構,所述清潔結構包括與所述懸架固定連接的清潔板,所述清潔板隨著所述懸架的運動同時運動;所述清潔板的側壁與所述電鍍槽本體的側壁相互接觸,在所述懸架的移動過程中實現對所述電鍍槽本體的側壁的清潔,通過結構設計,能夠實現電鍍槽槽壁雜質的自動清潔,提升電鍍槽的使用效率,從而提高電鍍效率。
技術領域
本實用新型涉及電鍍技術領域,具體而言,尤其是涉及一種可自動清理雜質的電鍍槽。
背景技術
電鍍槽是電鍍設備中最基礎的設備,主要功能是裝置溶液,電鍍槽在長時間使用后,電鍍槽的內表面會吸附大量的雜質,雜質的附著力強,難以清理,在現有技術中針對于對應的雜質清理通常是采用人工清理的方式,費時費力。
有鑒于此,特提出本申請。
實用新型內容
針對于現有技術中存在的相關問題,本實用新型提供了一種可自動清理雜質的電鍍槽,通過結構設計,能夠實現電鍍槽槽壁雜質的自動清潔,提升電鍍槽的使用效率,從而提高電鍍效率。
本實用新型實施例通過下述技術方案實現:
一種可自動清理雜質的電鍍槽,包括電鍍槽本體,所述電鍍槽本體包括用于懸掛待電鍍物的懸架,所述懸架可沿豎直方向垂直運動,從而實現待電鍍物于電鍍液的接觸或分離,還包括:清潔結構,所述清潔結構包括與所述懸架固定連接的清潔板,所述清潔板隨著所述懸架的運動同時運動;所述清潔板的側壁與所述電鍍槽本體的側壁相互接觸,在所述懸架的移動過程中實現對所述電鍍槽本體的側壁的清潔。
進一步的,所述清潔板通過連桿連接所述懸架,所述連桿的長度小于所述電鍍槽本體的深度,且在所述懸架下降到最低位置時,所述清潔板的底部與所述電鍍槽本體的槽底相接觸。
進一步的,所述清潔板在豎直高度上的移動范圍從所述電鍍槽本體的槽頂到所述電鍍槽本體的槽底。
進一步的,所述清潔板的靠近所述電鍍槽本體的側面直徑等于所述電鍍槽本體槽底的直徑,所述清潔板的遠離所述電鍍槽本體的側面直徑小于所述電鍍槽本體槽底的直徑。
進一步的,所述清潔板平行于所述電鍍槽本體槽底的兩個側面通過相對于所述電鍍槽本體槽底的傾斜的斜面連接。
進一步的,所述清潔結構還包括清潔水路,所述清潔水路包括設置于所述連桿內的第一水路以及設置于所述清潔板內的第二水路,所述第一水路的一端與供水機構連接,所述第一水路的另一端與所述第二水路的一段連接,所述斜面上設置有出水口,所述出水口與所述第二水路的一端連接。
進一步的,還包括觸發機構,在所述懸架沿豎直方向運動到遠離所述電鍍槽本體的最大位置時,觸發所述觸發機構,實現外部水源向所述清潔水路中供水。
進一步的,觸發機構包括與所述電鍍槽本體正上方固定件連接的第一導電片,所述懸架遠離所述電鍍槽本體槽底的一側設置有第二導電片,與所述第一導電片連通的電源組件、分別與所述第一導電片以及第二導電片電連接的電磁閥,在所述懸架移動時所述第一導電片以及所述第二導電片接通后,所述電源組件向所述電磁閥通電,從而實現所述電磁閥的開啟,實現清潔水路中的供水。
本實用新型與現有技術相比,具有如下的優點和有益效果:
1、本實用新型涉及的一種可自動清理雜質的電鍍槽,通過結構設計,能夠實現電鍍槽槽壁雜質的自動清潔,提升電鍍槽的使用效率,從而提高電鍍效率;
2、本實用新型涉及的一種可自動清理雜質的電鍍槽,通過所述連桿的長度設計,能夠有效的實現所述電鍍槽本體側壁的清潔,所述連桿的長度應當保證能夠有效清潔所述電鍍槽本體的側壁;
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