[實用新型]一種動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置有效
| 申請號: | 202122781943.0 | 申請日: | 2021-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN216864375U | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發明(設計)人: | 張福亮;周里華 | 申請(專利權)人: | 惠磊光電科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C30B11/00 | 分類號: | C30B11/00;F28G3/04 |
| 代理公司: | 南京北辰聯和知識產權代理有限公司 32350 | 代理人: | 陸中丹 |
| 地址: | 201801 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 動態 調整 晶體生長 爐用可 移動 冷卻 裝置 | ||
本實用新型公開了一種動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置,具體涉及冷卻裝置技術領域,包括上端環形冷卻箱,所述上端環形冷卻箱的下方設置有下端環形冷卻箱,所述上端環形冷卻箱的上方設置有安裝環,所述上端環形冷卻箱的兩側固定連接有導向輪,所述安裝環固定連接在生長爐隔磚的下端,所述安裝環的下端開設有安裝槽,所述安裝槽內設置有電動輥筒,所述電動輥筒上纏繞有牽引繩,所述牽引繩的一端與導向輪固定連接,所述上端環形冷卻箱和下端環形冷卻箱之間轉動連接有支撐桿,該冷卻裝置便于上下移動,控制與坩堝之間距離,利于產生晶體生長的大梯度溫場,保證晶體生長的質量。
技術領域
本實用新型屬于冷卻裝置技術領域,具體涉及一種動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置。
背景技術
非真空下降爐廣泛用于生長氧化物晶體和鹵化物晶體,下降爐的溫度梯度分布對晶體生長有決定性的影響,然而要獲得大梯度的溫度分布比較困難,而且對晶體生長有利的大梯度溫度對于晶體生長后的退火冷卻很不利,容易導致晶體應力大甚至碎裂,另外隨著坩堝逐步下降,低溫區被不斷加熱,導致溫度梯度逐步變小,溫度梯度不穩定,對晶體生長的穩定性和質量產生很大影響。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置投入使用,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置,包括上端環形冷卻箱,所述上端環形冷卻箱的下方設置有下端環形冷卻箱,所述上端環形冷卻箱的上方設置有安裝環,所述上端環形冷卻箱的兩側固定連接有導向輪,所述安裝環固定連接在生長爐隔磚的下端,所述安裝環的下端開設有安裝槽,所述安裝槽內設置有電動輥筒,所述電動輥筒上纏繞有牽引繩,所述牽引繩的一端與導向輪固定連接,所述上端環形冷卻箱和下端環形冷卻箱之間轉動連接有支撐桿,所述上端環形冷卻箱和下端環形冷卻箱之間通過金屬盤管連通,所述下端環形冷卻箱的一側面固定連接有安裝箱,所述安裝箱內設置有循環泵,所述循環泵的一端通過循環管與下端環形冷卻箱連通,所述循環泵的另一端通過循環管與上端環形冷卻箱連通。
優選的,所述循環管的外側套接有冷卻筒,所述冷卻筒的內壁設置有保溫層,所述冷卻筒的頂端設置有密封塞,所述冷卻筒的內部填充有冰袋。
優選的,所述冷卻筒的內側面設置有導熱塊,所述導熱塊與循環管接觸。
優選的,所述支撐桿的表面設置有清潔毛,所述支撐桿上固定連接有從動齒輪。
優選的,所述導向輪的兩側固定連接有第二錐形齒輪,所述第二錐形齒輪的正面嚙合有第一錐形齒輪,所述第一錐形齒輪的底端固定連接有連接軸,所述連接軸的底端固定連接有主動齒輪,所述主動齒輪與從動齒輪嚙合。
優選的,所述連接軸上轉動連接有套筒,所述套筒通過固定桿固定在上端環形冷卻箱的外側面上。
本實用新型的技術效果和優點:(1)該動態調整熱場的晶體生長爐用可移動冷卻裝置,通過設置有上端環形冷卻箱、下端環形冷卻箱和金屬盤管,可以對下降至低溫區的坩堝進行冷卻,保證坩堝在低溫區具有較大的溫度梯度,進而保證晶體的生長質量。
(2)利用電動滾筒可以帶動金屬盤管上下運動,便于控制金屬盤管與坩堝的距離,可以形成有利于晶體生長的大梯度溫場,并且即使坩堝下降導致低溫區被不斷加熱的現象,也因為冷卻裝置具有較強的強制散熱作用,被大幅度限制,溫度梯度變化不大,并且相對比較穩定,可以自始至終提供有利于晶體生長的穩定大梯度溫場。
(3)通過設置有冷卻筒,冷卻筒內設置有冰袋,可以對循環管內的冷卻介質進行冷卻,從而保證金屬盤管內部的;冷卻介質始終處于低溫狀態,延長該冷卻裝置的使用時間。
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