[實用新型]一種陶瓷片上料裝置

有效

• 申請號: 202122181750.1
• 申請日: 2021-09-09
• 公開（公告）號: CN216154982U
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 陳吉昌;黃庭君
• 申請（專利權）人: 東莞市微格能自動化設備有限公司
• 主分類號: B65G49/08
• 分類號: B65G49/08;B65G47/91;B65G47/82;B65G59/00
• 代理公司: 東莞卓為知識產權代理事務所(普通合伙) 44429
• 代理人: 湯冠萍

1.一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：包括底座、支架、陶瓷片上料機構和陶瓷片吸取機構，所述支架設置在底座上，所述支架內設有上料腔，所述上料腔設有上料口和出料口，所述上料腔內設置有陶瓷片上料機構，所述陶瓷片吸取機構設置在上料腔的出料口處；

所述陶瓷片上料機構包括上料板、氣缸和第一滑槽，所述上料腔的兩內側分別設置有第一滑槽和氣缸，所述上料板的兩側與第一滑槽滑動連接，所述氣缸的氣缸軸朝向出料口且與上料板連接，所述上料板上設有上端開口的陶瓷片容納倉，所述陶瓷片容納倉中可層疊若干塊陶瓷片。

2.根據權利要求1所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述支架內并列設有若干個上料腔，每個上料腔內并排設置有若干個陶瓷片上料機構，所述陶瓷片吸取機構設置在若干個上料腔的出料口處。

3.根據權利要求2所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述陶瓷片吸取機構包括吸取組件、橫向移動模組、第一升降模組和第二升降模組，所述支架的兩側分別設置有第一升降模組和第二升降模組，所述橫向移動模組的兩端分別與第一升降模組和第二升降模組活動連接，所述吸取組件活動設置在橫向移動模組上。

4.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述陶瓷片容納倉由若干個均勻分布的支柱圍設形成。

5.根據權利要求4所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述支柱的底部設置有調節滑塊，所述上料板上設有與調節滑塊相對應的第二滑槽，所述支柱通過調節滑塊活動設置在第二滑槽中。

6.根據權利要求5所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述第二滑槽的一側設有標尺。

7.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述陶瓷片容納倉與出料口之間設置有除靜電毛刷。

8.根據權利要求1或2所述的一種陶瓷片上料裝置，其特征在于：所述上料板朝向上料口的一側設置有拉手。