[實用新型]流體管件、微環(huán)境控制系統(tǒng)及光刻機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202121772574.2
• 申請日: 2021-07-30
• 公開（公告）號: CN215219423U
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳飛
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 鄭星

本實用新型提供一種流體管件、微環(huán)境控制系統(tǒng)及光刻機。其中，流體管件中的第一通道的一端與至少一個第二通道相連通，用于實現(xiàn)分流或合束。第一通道的橫截面和至少一個第二通道的橫截面分別與流經(jīng)管件本體的流體的中心跡線的對應(yīng)切向垂直，以實現(xiàn)均勻流體壓力，提高分流或合束的穩(wěn)定性。且管件本體流線型的設(shè)計，以實現(xiàn)降低管件本體內(nèi)的阻力，進一步實現(xiàn)流體的均勻化。以及，管件本體的管壁為中空結(jié)構(gòu)，和/或為含有單周期晶格結(jié)構(gòu)的三明治結(jié)構(gòu)，從而實現(xiàn)隔熱的效果，緩解流體散熱問題，提高微環(huán)境控制系統(tǒng)對光刻機內(nèi)部溫度調(diào)控的精準(zhǔn)度。因此，本實用新型不僅能夠提高流體分流或合束的均勻性，降低阻力，還具有良好的隔熱效果，成本低。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及光刻機制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種流體管件、微環(huán)境控制系統(tǒng)及光刻機。

背景技術(shù)

光學(xué)曝光裝置，又稱光刻機，是利用光學(xué)投影成像的原理將掩模版上集成電路(Integrated circuit,IC)圖形以分布重復(fù)或掃描的方式轉(zhuǎn)移至涂膠硅片上，由此來制備半導(dǎo)體器件。光刻機的主要組成部分包括：光源系統(tǒng)、照射系統(tǒng)、投影系統(tǒng)、掩模、掩模運動臺、硅片運動臺、對準(zhǔn)裝置、微環(huán)境控制系統(tǒng)、減振框架系統(tǒng)、浸沒式裝置等。其中，微環(huán)境控制系統(tǒng)用于控制投影曝光區(qū)域的壓力(真空度)、溫度和污染物。

因光刻機對投影物鏡內(nèi)部環(huán)境的要求極高，尤其是溫度的穩(wěn)定性與均勻性，所以對于微環(huán)境控制系統(tǒng)中的流體管件的分流和合束的要求很高。然而，目前適用于微環(huán)境控制系統(tǒng)中的分流器和合束器中的內(nèi)部流體在分流或合束時會產(chǎn)生局部紊流，不利于溫控的壓力的穩(wěn)定性和整機機械系統(tǒng)的動態(tài)穩(wěn)定性。并且，分流器和合束器中的管壁熱傳導(dǎo)嚴(yán)重，致使大量溫度擴散，從而導(dǎo)致無法精準(zhǔn)調(diào)控投影物鏡內(nèi)部溫度。以及，目前所使用的分流器和合束器的結(jié)構(gòu)設(shè)計致使沿程阻力和局部阻力較大，使得功耗過高，系統(tǒng)中的動力需求負(fù)擔(dān)重。此外，目前所使用的分流器和合束器通常是根據(jù)客戶需求和工況條件，采用單件建模設(shè)計修改、仿真驗證、反復(fù)修改而成，導(dǎo)致人力成本高、耗時長且效果差。

因此，需要一種新的流體管件，來解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供一種流體管件、微環(huán)境控制系統(tǒng)及光刻機，以解決如何提高流體分流或合束的穩(wěn)定性，如何提高隔熱效果，以及降低管件內(nèi)部阻力，降低功耗中的至少一個問題。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種流體管件，用于分流或合束流體，包括管件本體以及設(shè)置在所述管件本體內(nèi)的第一通道和至少一個第二通道；其中，所述第一通道的一端與所述至少一個第二通道相連通，且所述第一通道的橫截面和所述至少一個第二通道的橫截面分別與流經(jīng)所述管件本體的流體的中心跡線的對應(yīng)切向垂直；

以及，所述管件本體的管壁為中空結(jié)構(gòu)，和/或為含有單周期晶格結(jié)構(gòu)的三明治結(jié)構(gòu)。

可選的，在所述的流體管件中，所述第一通道以及所述至少一個第二通道的橫截面梯度均為零。

可選的，在所述的流體管件中，所述第一通道以及所述至少一個第二通道的橫截面梯度均呈線性。

可選的，在所述的流體管件中，所述管件本體具有第一端口和至少一個第二端口；其中，所述第一通道的另一端為所述第一端口，所述第二通道遠(yuǎn)離所述第一通道的一端為所述第二端口；且所述第一端口所在平面分別與所述至少一個第二端口所在平面平行。

可選的，在所述的流體管件中，所述第一端口和所述第二端口的形狀包括軸對稱圖形。

可選的，在所述的流體管件中，所述第一端口的橫截面積等于所有所述第二端口的橫截面積之和。

可選的，在所述的流體管件中，當(dāng)所述第一端口的橫截面積大于或小于所有所述第二端口的橫截面積之和時，所述第一通道至每一所述第二通道的橫截面積梯度呈線性或非線性。

可選的，在所述的流體管件中，所述管件本體呈流線型，且所述中心跡線呈平滑曲線。