[實(shí)用新型]基板平整裝置及光刻設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202121481656.1
• 申請(qǐng)日: 2021-06-30
• 公開（公告）號(hào): CN214896204U
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊博光;王鑫鑫;蔡晨;孫鋮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 鄭星

1.一種基板平整裝置，其特征在于，包括：驅(qū)動(dòng)單元和壓邊單元，所述壓邊單元包括多個(gè)壓板，多個(gè)所述壓板用于與基板的多個(gè)邊緣區(qū)域一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述驅(qū)動(dòng)單元被配置為，在吸盤完成對(duì)所述基板的吸附后，若所述基板的某一邊緣區(qū)域的真空吸附閾值不滿足設(shè)定條件時(shí)，則朝接近所述基板的方向驅(qū)動(dòng)相應(yīng)所述壓板以至少對(duì)真空吸附閾值不滿足設(shè)定條件的所述邊緣區(qū)域進(jìn)行按壓。

2.如權(quán)利要求1所述的基板平整裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元包括多個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，各所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)至少一所述壓板。

3.如權(quán)利要求2所述的基板平整裝置，其特征在于，各所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)分別用于驅(qū)動(dòng)一所述壓板，或者，用于驅(qū)動(dòng)沿同一方向設(shè)置的兩個(gè)所述壓板，或者，用于驅(qū)動(dòng)相鄰的兩個(gè)或兩個(gè)以上的所述壓板。

4.如權(quán)利要求2所述的基板平整裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)單元還包括多個(gè)連接件，多個(gè)所述連接件和多個(gè)所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述壓板通過所述連接件固定于所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)在對(duì)所述壓板進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)，所述連接件之間互不干涉。

5.如權(quán)利要求1所述的基板平整裝置，其特征在于，所述壓邊單元包括沿第一方向設(shè)置的兩個(gè)所述壓板和沿第二方向設(shè)置的兩個(gè)所述壓板，所述第二方向垂直于所述第一方向，所述驅(qū)動(dòng)單元包括第一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第一傳動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)沿第一方向設(shè)置的兩個(gè)所述壓板，所述第二傳動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)沿第二方向設(shè)置的兩個(gè)所述壓板。

6.如權(quán)利要求1所述的基板平整裝置，其特征在于，所述基板平整裝置還包括設(shè)置于所述壓板的彈性結(jié)構(gòu)，所述壓板對(duì)所述基板的邊緣區(qū)域進(jìn)行按壓時(shí)，通過所述彈性結(jié)構(gòu)與所述邊緣區(qū)域相接觸。

7.如權(quán)利要求6所述的基板平整裝置，其特征在于，所述彈性結(jié)構(gòu)的用于與所述基板相接觸的部分為橡膠體。

8.如權(quán)利要求6所述的基板平整裝置，其特征在于，所述彈性結(jié)構(gòu)包括第一彈性體，所述第一彈性體設(shè)置于所述壓板朝向所述基板的一側(cè)。

9.如權(quán)利要求8所述的基板平整裝置，其特征在于，所述第一彈性體為O型橡膠圈。

10.如權(quán)利要求6所述的基板平整裝置，其特征在于，所述彈性結(jié)構(gòu)包括壓帽、第二彈性體、傳動(dòng)螺銷和壓條，所述彈性結(jié)構(gòu)通過所述壓條與所述邊緣區(qū)域相接觸，所述壓帽固定于所述壓板背向所述基板的一側(cè)，所述傳動(dòng)螺銷的一端通過所述第二彈性體與所述壓帽相接，另一端貫穿所述壓板，與所述壓條相接。

11.如權(quán)利要求10所述的基板平整裝置，其特征在于，所述第二彈性體為彈簧。

12.一種光刻設(shè)備，其特征在于，所述光刻設(shè)備包括：吸盤及如權(quán)利要求1～11任一項(xiàng)所述的基板平整裝置；所述基板平整裝置用于對(duì)所述吸盤吸附的基板的邊緣區(qū)域進(jìn)行平整處理。

13.如權(quán)利要求12所述的光刻設(shè)備，其特征在于，所述吸盤包括設(shè)于邊緣區(qū)域且突起的環(huán)形密封圈，所述環(huán)形密封圈為褶皺密封圈或所述環(huán)形密封圈具有均勻分布的多個(gè)吸嘴。