[實用新型]一種顯微鏡載臺晶圓承片治具有效
| 申請號: | 202121034725.4 | 申請日: | 2021-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN214477363U | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發明(設計)人: | 李凱文 | 申請(專利權)人: | 湘能華磊光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/673 | 分類號: | H01L21/673 |
| 代理公司: | 長沙七源專利代理事務所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 張勇;周曉艷 |
| 地址: | 423038 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯微鏡 載臺晶圓承片治具 | ||
本實用新型提供了一種顯微鏡載臺晶圓承片治具。包括治具本體,所述治具本體上設有晶圓放置部;所述晶圓放置部上設有沉槽,所述沉槽一側設有延伸至治具本體側面的缺口。本實用新型通過在治具本體上設置晶圓放置部,便于將晶圓放置在治具本體上,隨治具本體移動,便于在顯微鏡下進行觀測;晶圓放置部上設有用于容納吸筆的沉槽,沉槽一側設有延伸至治具本體側面的缺口,便于操作人員將吸筆從治具本體側面的缺口伸入晶圓下方,對晶圓下表面進行吸附,實現晶圓的轉移,避免對晶圓的觀測面造成污染。
技術領域
本實用新型涉及檢測裝置領域,具體涉及一種顯微鏡載臺晶圓承片治具。
背景技術
通過顯微鏡對晶圓進行觀測時,需不斷移動晶圓的觀測位置,而直接通過人工挪動晶圓,容易導致晶圓表面沾染油污,影響觀測結果,若通過吸筆對晶圓上表面進行吸附取放,會導致晶圓上表面沾染污漬;若通過吸筆對晶圓下表面進行吸附取放,吸筆與載臺之間會存在干涉,操作不便。
綜上所述,急需一種顯微鏡載臺晶圓承片治具以解決現有技術中存在的問題。
實用新型內容
本實用新型目的在于提供一種顯微鏡載臺晶圓承片治具,以解決在顯微鏡下觀測晶圓時晶圓的取放的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供了一種顯微鏡載臺晶圓承片治具,包括治具本體,所述治具本體上設有晶圓放置部;所述晶圓放置部上設有沉槽,所述沉槽一側設有延伸至治具本體側面的缺口。
優選的,所述晶圓放置部上設有弧形擋邊。
優選的,所述治具本體上設有手柄。
優選的,所述手柄位于治具本體遠離沉槽的缺口的一側。
優選的,所述手柄上設有防滑紋。
優選的,所述治具本體底面為平面。
優選的,所述治具本體底面設有減阻涂層。
優選的,所述治具本體的材質為絕緣材料。
優選的,所述治具本體的材質為電木板。
應用本實用新型的技術方案,具有以下有益效果:
(1)本實用新型中,通過在治具本體上設置晶圓放置部,便于將晶圓放置在治具本體上,隨治具本體移動,便于在顯微鏡下進行觀測;晶圓放置部上設有用于容納吸筆的沉槽,沉槽一側設有延伸至治具本體側面的缺口,便于操作人員將吸筆從治具本體側面的缺口伸入晶圓下方,對晶圓下表面進行吸附,實現晶圓的轉移,避免對晶圓的觀測面(即上表面)造成污染。
(2)本實用新型中,通過在晶圓放置部上設置弧形擋邊,用以實現對晶圓的圓周側面的抵靠。
(3)本實用新型中,治具本體上設有手柄,便于操作人員通過手柄移動治具本體和治具本體上的晶圓,用以實現顯微鏡頭下晶圓觀測位置的移動。
(4)本實用新型中,手柄位于治具本體遠離沉槽的缺口的一側,便于操作人員從治具本體的一側放置晶圓,從治具本體的另一側通過手柄移動治具本體,避免操作人員手持手柄時,晶圓對操作人員的手造成干涉。
(5)本實用新型中,治具本體底面為平面,便于治具本體在載臺上移動;治具本體底面設有減阻涂層,用以減少治具本體底面與顯微鏡載臺上表面之間的摩擦力。
(6)本實用新型中,治具本體的材質為絕緣材料,優選材質為電木板,具有較好的絕緣性、不產生靜電、耐磨及耐高溫等特點,有利于晶圓的防護。
除了上面所描述的目的、特征和優點之外,本實用新型還有其它的目的、特征和優點。下面將參照圖,對本實用新型作進一步詳細的說明。
附圖說明
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





