[實用新型]用于燒結ZnO壓敏電阻片的鋅鉍銻燒結匣缽

有效

• 申請號: 202120646547.4
• 申請日: 2021-03-29
• 公開（公告）號: CN214847971U
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 谷山強;萬帥;曹偉;譚進;任鑫;姚政;劉新;劉子皓;杜雪松;王智凱
• 申請（專利權）人: 國網電力科學研究院武漢南瑞有限責任公司;國網電力科學研究院有限公司;國家電網有限公司;國網安徽省電力有限公司;上海大學
• 主分類號: H01C7/112
• 分類號: H01C7/112;H01C17/30;F27B21/04
• 代理公司: 武漢開元知識產權代理有限公司 42104
• 代理人: 潘杰

本實用新型公開了一種用于燒結ZnO壓敏電阻片的鋅鉍銻燒結匣缽，所述匣缽包括缽盒和上蓋，所述缽盒包括外壁和內壁且外壁高于內壁形成傾斜面；所述外壁和內壁之間形成匣缽夾層，所述匣缽夾層內填充有鋅鉍銻混合漿料且鋅鉍銻混合漿料低于匣缽夾層的高度，所述上蓋呈倒梯臺結構，所述上蓋內面均涂覆有鋅鉍銻涂層。本實用新型結構簡單，在燒結ZnO壓敏電阻片時提供鉍銻燒結氣氛，減少燒結過程中ZnO壓敏電阻片坯體中鉍銻氧化物揮發，使ZnO壓敏電阻片組分盡量保持與燒結前一致，更好的發揮出配方的優勢。

技術領域

本實用新型涉及電阻片領域，具體涉及一種用于燒結ZnO壓敏電阻片的鋅鉍銻燒結匣缽。

背景技術

ZnO壓敏電阻片是由ZnO主原料和Bi、Sb、Co、Mn、Ni、Cr、Si等元素的氧化物燒結而成，在燒結過程中會由于溫度超過1000℃及爐內氣氛不飽和，將會導致陶瓷坯體中的低熔點添加劑，如Bi₂O₃、Sb₂O₃部分揮發，由于ZnO壓敏電阻片有一定的厚度，添加劑由外到內的揮發，同時也會使ZnO壓敏電阻片內部微觀結構及成分不均勻，揮發掉的添加劑在后續工序中得不到補償，進而影響電阻片的性能，造成ZnO壓敏電阻片電位梯度在徑向方向由內向外降低，非線性系數下降、漏電流增大等一系列問題。

發明內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供了一種用于燒結ZnO壓敏電阻片的鋅鉍銻燒結匣缽；本實用新型在匣缽夾層中填入鋅鉍銻混合漿料，同時在上蓋內面涂覆鋅鉍銻涂層，能夠在燒結溫度達到一定時使爐內鉍銻氣氛達到飽和狀態，進而抑制ZnO壓敏電阻片內Bi₂O₃、Sb₂O₃金屬氧化物添加劑的揮發。

為實現上述目的，本實用新型所設計一種用于燒結ZnO壓敏電阻片的鋅鉍銻燒結匣缽，所述匣缽包括缽盒和上蓋，所述缽盒包括外壁和內壁且外壁高于內壁形成傾斜面；所述外壁和內壁之間形成匣缽夾層，所述匣缽夾層內填充有鋅鉍銻混合漿料且鋅鉍銻混合漿料低于匣缽夾層的高度，所述上蓋呈倒梯臺結構，所述上蓋內面均涂覆有鋅鉍銻涂層。

進一步地，所述匣缽夾層的厚度為1～5cm。

再進一步地，所述匣缽夾層的厚度為4cm。

再進一步地，所述外壁比內壁高于2～3mm。

再進一步地，所述鋅鉍銻涂層的厚度為2～10mm。

再進一步地，所述鋅鉍銻涂層的厚度為5mm。

再進一步地，所述上蓋2頂面設置有把手。

本實用新型的工作原理：

本實用新型的鋅鉍銻燒結匣缽加熱開始時，匣缽的溫度首先升高，夾層和上蓋處的鋅鉍銻漿料率先達到揮發條件，使得其附近區域的氣氛濃度高于ZnO壓敏電阻片生坯區域的氣氛濃度，導致夾層和上蓋中產生的鉍銻氣氛向ZnO壓敏電阻片生坯區域擴散，在燒結過程中生坯區域的氣氛濃度會逐漸升高，最終在匣缽夾層和上蓋中的鋅鉍銻漿料的雙重作用下，匣缽內部整體空間的氣氛濃度會達到一個均衡狀態，進而抑制ZnO壓敏電阻片生坯內低熔點添加劑Bi₂O₃和Sb₂O₃的揮發。

本實用新型的有益效果：

本實用新型結構簡單，在燒結ZnO壓敏電阻片時提供鉍銻燒結氣氛，減少燒結過程中ZnO壓敏電阻片坯體中氧化物的揮發，使ZnO壓敏電阻片組分盡量保持與燒結前一致，更好的發揮出電阻片配方的優勢。

附圖說明

圖1為鋅鉍銻燒結匣缽的結構示意圖；

圖2為缽盒的細節圖；

圖3為上蓋的細節圖；