[實用新型]成像裝置及電子設備

有效

• 申請號: 202120418864.0
• 申請日: 2021-02-25
• 公開（公告）號: CN214846182U
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 鄒亮
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲光電技術有限公司
• 主分類號: G03B17/12
• 分類號: G03B17/12;H04N5/225
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強

本申請公開了一種成像裝置及電子設備。成像裝置包括底座、濾光元件和電路板，底座設有收容空間，濾光元件安裝在收容空間內，電路板安裝在收容空間內或收容空間的一端，濾光元件與電路板間隔且層疊設置，且底座、濾光元件和電路板圍設形成感光空間，底座設有逃氣孔，所述逃氣孔為毛細結構，逃氣孔連通在底座的外表面和感光空間之間，以平衡外部空間和所述感光空間內的壓力，毛細結構具有毛細作用以避免液體通過逃氣孔進入感光空間。本申請的逃氣孔可以防止在對成像裝置進行清洗的過程中，清洗液進入感光空間內，而影響成像裝置的成像質量。

技術領域

本申請涉及密封技術領域，尤其涉及一種具有密封結構的成像裝置及電子設備。

背景技術

目前，手機、平板、筆記本電腦等電子設備都搭載有成像裝置，以滿足用戶需求愈加多樣化發展趨勢。

現有的成像裝置設有底座、濾光元件和電路板，濾光元件和電路板通常采用點膠的方式與底座固定連接，且此時底座、濾光元件和電路板共同形成封閉的感光空間。為了防止高溫、高壓時感光空間內的壓力過大而損壞濾光元件和電路板上的感光芯片，通常會在底座上設置逃氣孔，以平衡感光空間內外的壓力。然而，在組裝完成后，對成像裝置進行清洗的過程中，清洗液會通過逃氣孔進入感光空間內，影響成像裝置的功能。

如何避免清洗的過程中清洗液進入底座、濾光元件和電路板共同形成的感光空間應為業界的研發方向。

實用新型內容

本申請實施例公開了一種成像裝置及電子設備。本申請的成像裝置可以避免清洗的過程中清洗液進入底座、濾光元件和電路板共同形成的感光空間。

第一方面，本申請實施例提供了一種成像裝置，包括底座、濾光元件和電路板，所述底座設有收容空間，所述濾光元件安裝在所述收容空間內，所述電路板安裝在所述收容空間內或所述收容空間的一端，所述濾光元件與所述電路板間隔且層疊設置，所述底座、所述濾光元件和所述電路板圍設形成感光空間，所述底座設有逃氣孔，所述逃氣孔為毛細結構，可以理解地，整個的逃氣孔都可以為毛細結構，也可以局部的逃氣孔為毛細結構，也即毛細結構是逃氣孔的一部分或者毛細結構為整個逃氣孔。所述逃氣孔連通在所述底座的外表面和所述感光空間之間，以平衡外部空間和所述感光空間內的壓力，也即逃氣孔連通外部空間和感光空間。所述毛細結構具有毛細作用以避免液體通過所述逃氣孔進入所述感光空間。需要說明的是，外部空間是指感光空間以外的空間，也即感光空間以外的空間都稱為外部空間。

本申請的逃氣孔可以防止在對成像裝置進行清洗的過程中，清洗液進入感光空間內，而影響成像裝置的成像質量。

具體而言，濾光元件和電路板通常采用點膠的方式與底座固定連接，且此時底座、濾光元件和電路板共同形成封閉的感光空間。在對膠體進行加熱固化以固定濾光元件與底座及電路板與底座的過程中，或者對成像裝置進行高壓測試的過程中，為了避免封閉的感光空間內的壓力過大而損壞濾光元件和電路板上的感光芯片，通常會在底座上設置逃氣孔，以平衡感光空間內外的壓力，也即平衡外部空間和感光空間內的壓力。然而，組裝完成后，在對成像裝置進行清洗的過程中，清洗液會通過逃氣孔進入感光空間，影響成像裝置的功能。目前對膠體進行加熱固化后，在逃氣孔內進行填膠，封堵逃氣孔以避免清洗的過程中清洗液進入感光空間。但是這樣需要增加在逃氣孔內進行填膠的工序，且填膠的過程中膠體還會通過逃氣孔進入感光空間，影響成像質量。此外，逃氣孔填膠密封后，底座、濾光元件和電路板共同形成的感光空間被密封，這樣在高壓測試時或者成像裝置在高壓、低壓條件下工作時，感光空間內的壓力過大而損壞濾光元件和電路板上的感光芯片，導致濾光元件和電路板上的感光芯片受內外壓力差變形或者碎裂使得成像裝置的功能受到影響。