[實用新型]一種晶片腐蝕和清洗治具

有效

• 申請號: 202120343266.1
• 申請日: 2021-02-07
• 公開（公告）號: CN214612850U
• 公開（公告）日: 2021-11-05
• 發明（設計）人: 王銘乾;鐘興才;周旦興
• 申請（專利權）人: 深圳市鑫億晶科技有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10;B08B13/00;H01L21/687
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，包括第一前載板（4）、第二前載板（8）、第一后載板（5）以及第二后載板（7），第一前載板（4）與第二前載板（8）之間設置第一晶片載架（3），第一后載板（5）與第二后載板（7）之間設置第二晶片載架（6），第一前載板（4）以及第二前載板（8）通過調節組件（1）與第一后載板（5）以及第二后載板（7）相連接，第一晶片載架（3）以及第二晶片載架（6）上設置多組晶片定位組件（2）；

調節組件（1）包括第一調節桿（101）以及第二調節桿（110），第一調節桿（101）一端滑動連接在第一調節槽（104）內，第二調節桿（110）一端活動連接在第二調節槽（107）內，第一調節桿（101）設置在第一前載板（4）一側表面，第二調節桿（110）設置在第二前載板（8）一側表面，第一調節槽（104）開設在第一后載板（5）一側表面，第二調節槽（107）開設在第二后載板（7）一側表面。

2.根據權利要求1所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，第一后載板（5）一側表面設置第一定位旋鈕（102），第一定位旋鈕（102）一端與第一調節桿（101）抵接，第二后載板（7）一側表面設置第二定位旋鈕（109），第二定位旋鈕（109）一端與第二調節桿（110）抵接。

3.根據權利要求2所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，第一調節桿（101）一端設置第一限位塊（103），第一限位塊（103）一端滑動連接在第一限位槽（105）內，第一限位槽（105）開設在第一調節槽（104）內壁一側。

4.根據權利要求2所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，第二調節桿（110）一端設置第二限位塊（108），第二限位塊（108）一端滑動連接在第二限位槽（106）內，第二限位槽（106）開設在第二調節槽（107）內壁一側。

5.根據權利要求1所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，晶片定位組件（2）包括晶片卡槽（21），晶片卡槽（21）分別開設在第一晶片載架（3）以及第二晶片載架（6）頂部一側，晶片卡槽（21）內兩側表面對稱設置第一收納槽（24）以及第二收納槽（27），第一收納槽（24）內活動設置第一定位銷（22），第二收納槽（27）內活動設置第二定位銷（25），第一收納槽（24）內一側表面設置第一彈簧（23），第一彈簧（23）一端與第一定位銷（22）固定連接，第二收納槽（27）內一側表面設置第二彈簧（26），第二彈簧（26）一端與第二定位銷（25）固定連接。

6.根據權利要求5所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，第一定位銷（22）與第二定位銷（25）一端橫截面均為圓弧形，且第一定位銷（22）與第二定位銷（25）規格相同。

7.根據權利要求5所述的一種晶片腐蝕和清洗治具，其特征在于，晶片卡槽（21）內底部設置軟質緩沖墊（28），軟質緩沖墊（28）粘接設置在晶片卡槽（21）內底部。