[實(shí)用新型]磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202120246140.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN214623005U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬向儒;葉凱倫;劉明明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江英洛華引力科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R33/12 | 分類號(hào): | G01R33/12 |
| 代理公司: | 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241 | 代理人: | 林君勇 |
| 地址: | 322100 浙江省金華*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁回中力 檢測(cè) 用載物 機(jī)構(gòu) | ||
本實(shí)用新型涉及一種磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu)。一種磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu),包括沿前后方向設(shè)置的上板和下板,所述上板位于下板上方,所述上板前端設(shè)有向下延伸的第一支撐柱,所述上板后端能以所述第一支撐柱下端為中心上下擺動(dòng),所述上板后端與下板后端間設(shè)有2n個(gè)載物塊組,2n個(gè)載物塊組沿左右方向間隔設(shè)置,每個(gè)載物塊組均包括一個(gè)第一載物塊和一個(gè)第二載物塊,所述第一載物塊與上板固定,所述第二載物塊與下板固定,同一載物塊組的第一載物塊和第二載物塊左右相鄰,所述第一載物塊上形成有用于放置待檢測(cè)產(chǎn)品的第一放置槽,所述第二載物塊上形成有用于放置檢測(cè)用磁體的第二放置槽。本實(shí)用新型具有能提高磁回中力檢測(cè)精確度的優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)
磁回中力一般指將磁體或磁性組件垂直于磁化方向拉開(kāi)過(guò)程中產(chǎn)生的作用力,該作用力的方向垂直于磁化方向,該作用力的效果是使磁體或磁性組件沿垂直于磁化方向返回初始位置。磁吸力一般指將磁體或磁性組件平行于磁化方向拉開(kāi)過(guò)程中產(chǎn)生的作用力,該作用力的方向平行于磁化方向,該作用力的效果是使磁體或磁性組件沿平行于磁化方向返回初始位置。
一般每次對(duì)一雙磁體或磁性組件的磁回中力進(jìn)行檢測(cè),目前用于磁回中力測(cè)試的設(shè)備多改裝于測(cè)試重力、拉拔力、剪切力的設(shè)備,磁回中力不同于重力,在磁體或磁性組件被拉偏離開(kāi)初始位置的過(guò)程中,磁力線會(huì)沿著磁導(dǎo)率最大的路徑重新排布,相應(yīng)的磁回中力和磁吸力也會(huì)產(chǎn)生變化。磁吸力在偏離過(guò)程中的變化是非線性的,其作用在接觸面上會(huì)產(chǎn)生較強(qiáng)的摩擦力也是非線性的,由于摩擦力的方向和磁回中力的方向相反,會(huì)干擾磁回中力的檢測(cè),現(xiàn)有檢測(cè)設(shè)備的檢測(cè)結(jié)果并不精確。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種能提高磁回中力檢測(cè)精確度的磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:一種磁回中力檢測(cè)用載物機(jī)構(gòu),包括沿前后方向設(shè)置的上板和下板,所述上板位于下板上方,所述上板前端設(shè)有向下延伸的第一支撐柱,所述上板后端能以所述第一支撐柱下端為中心上下擺動(dòng),所述上板后端與下板后端間設(shè)有2n個(gè)載物塊組,2n個(gè)載物塊組沿左右方向間隔設(shè)置,每個(gè)載物塊組均包括一個(gè)第一載物塊和一個(gè)第二載物塊,所述第一載物塊與上板固定,所述第二載物塊與下板固定,同一載物塊組的第一載物塊和第二載物塊左右相鄰,所述第一載物塊上形成有用于放置待檢測(cè)產(chǎn)品的第一放置槽,所述第二載物塊上形成有用于放置檢測(cè)用磁體的第二放置槽,n為大于0的正整數(shù)。
本實(shí)用新型機(jī)構(gòu)使用時(shí),可以搭配現(xiàn)有檢測(cè)設(shè)備一起使用,將2n個(gè)相同的待檢測(cè)產(chǎn)品分別放入第一放置槽內(nèi),然后通過(guò)現(xiàn)有檢測(cè)設(shè)備將上板后端向上拉動(dòng)一定距離,以使上板后端向上翻轉(zhuǎn)一個(gè)極小的角度并測(cè)得此時(shí)的拉力F前,然后使上板復(fù)位,在2n個(gè)第二放置槽內(nèi)分別放置一個(gè)相同的檢測(cè)用磁體(可以與待檢測(cè)產(chǎn)品相同,也可以與待檢測(cè)產(chǎn)品不同),然后通過(guò)現(xiàn)有檢測(cè)設(shè)備將上板后端向上拉動(dòng)一定距離,以使上板后端向上翻轉(zhuǎn)同樣大小的一個(gè)極小的角度,并測(cè)得此時(shí)的拉力F后,然后使上板復(fù)位,并且取出產(chǎn)品。其中,計(jì)算拉力F2,F(xiàn)2=F后-F前。其中,提前測(cè)量得到第一支撐柱所在軸線與上板被現(xiàn)有設(shè)備拉起的受力處間的距離為L(zhǎng)2,提前測(cè)量得到第一支撐柱所在軸線與產(chǎn)品中心處間的距離為L(zhǎng)1,最終得到所測(cè)產(chǎn)品的磁回中力為F1=F2*L2/L1。其中,進(jìn)行上板轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),該極小的角度應(yīng)小于5°,當(dāng)上板以第一支撐柱下端為中心進(jìn)行向上5°的轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),上板后端的前后位移可忽略不計(jì)。其中,L1是上板前端支點(diǎn)到磁體或磁性組件中心的水平距離,對(duì)于中心對(duì)稱的磁體或磁性組件,該等效距離可以實(shí)際測(cè)得;對(duì)于非中心對(duì)稱的磁體或磁性組件,該距離可以通過(guò)現(xiàn)有軟件分析測(cè)得。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江英洛華引力科技有限公司,未經(jīng)浙江英洛華引力科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202120246140.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)
- 貼標(biāo)機(jī)構(gòu)位置調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)
- 滑動(dòng)機(jī)構(gòu)、按鈕機(jī)構(gòu)、磁性鎖存機(jī)構(gòu)和按鍵機(jī)構(gòu)
- 操作機(jī)構(gòu)的輔助機(jī)構(gòu)
- 用于操作機(jī)構(gòu)的輔助機(jī)構(gòu)
- 操作機(jī)構(gòu)的輔助機(jī)構(gòu)
- 機(jī)構(gòu)下壓解鎖機(jī)構(gòu)
- 吸附機(jī)構(gòu)和承載機(jī)構(gòu)
- 換筆機(jī)構(gòu)及寫字機(jī)構(gòu)
- 送膠機(jī)構(gòu)改進(jìn)機(jī)構(gòu)
- 軸承機(jī)構(gòu)、風(fēng)門機(jī)構(gòu)以及具備風(fēng)門機(jī)構(gòu)的鍋爐





