[實(shí)用新型]狹縫噴嘴以及基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202120211298.6
• 申請(qǐng)日: 2021-01-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN215141551U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-12-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安陪裕滋
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類(lèi)號(hào): B05C5/02
• 分類(lèi)號(hào): B05C5/02
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種狹縫噴嘴，其特征在于，包括：

噴嘴本體，其中分別具有平坦的相向面的一對(duì)唇部以所述相向面彼此隔開(kāi)間隙地相向的方式配置，而形成呈狹縫狀開(kāi)口的吐出口；以及

調(diào)整機(jī)構(gòu)，使所述一對(duì)唇部相對(duì)地向接近方向及分離方向位移來(lái)調(diào)整所述吐出口的開(kāi)口寬度，且

在所述一對(duì)唇部中的至少一個(gè)中，在從所述相向面觀看時(shí)與另一個(gè)所述唇部為相反側(cè)的面上，設(shè)置有沿著與所述吐出口的長(zhǎng)邊方向平行的方向的槽，

所述調(diào)整機(jī)構(gòu)具有沿著所述長(zhǎng)邊方向排列的多個(gè)調(diào)整螺絲，各個(gè)所述調(diào)整螺絲在與所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而與所述噴嘴本體螺合，通過(guò)以增減所述槽的寬度的方式使所述噴嘴本體變形來(lái)調(diào)整所述開(kāi)口寬度，

與所述相向面正交的正交方向上的所述調(diào)整螺絲與所述相向面的距離在與所述吐出口在所述長(zhǎng)邊方向上的端部對(duì)應(yīng)的位置處，比在與所述吐出口在所述長(zhǎng)邊方向上的中央部對(duì)應(yīng)的位置處大。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚在所述長(zhǎng)邊方向上一定。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫噴嘴，其特征在于，與所述端部對(duì)應(yīng)的位置處的、所述槽的底部與所述相向面之間的所述唇部的壁厚比與所述中央部對(duì)應(yīng)的位置處的所述壁厚小。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述多個(gè)調(diào)整螺絲的各者與所述相向面在所述正交方向上的距離沿著所述長(zhǎng)邊方向呈多階段地變化。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴，其特征在于，在所述長(zhǎng)邊方向上鄰接的兩個(gè)所述調(diào)整螺絲中的位于所述長(zhǎng)邊方向的外側(cè)的其中一個(gè)所述調(diào)整螺絲與所述相向面的距離和另一個(gè)所述調(diào)整螺絲與所述相向面的距離相等或更大。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴，其特征在于，在與所述中央部對(duì)應(yīng)的位置上所配置的多個(gè)所述調(diào)整螺絲之間，所述正交方向上的與所述相向面的距離相等。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述槽及所述調(diào)整機(jī)構(gòu)與所述一對(duì)唇部分別對(duì)應(yīng)地設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的狹縫噴嘴，其特征在于，在設(shè)置于所述一對(duì)唇部中的其中一個(gè)所述唇部的所述調(diào)整螺絲與設(shè)置于另一個(gè)所述唇部的所述調(diào)整螺絲之間，所述長(zhǎng)邊方向上的配設(shè)位置互不相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述噴嘴本體通過(guò)將分別具有所述唇部的第一本體構(gòu)件與第二本體構(gòu)件結(jié)合而形成。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的狹縫噴嘴，其特征在于，所述第一本體構(gòu)件與所述第二本體構(gòu)件隔著規(guī)定所述間隙的墊片而結(jié)合。

11.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的狹縫噴嘴；

相對(duì)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，將基板與所述狹縫噴嘴的所述吐出口相向地配置，并且使所述狹縫噴嘴與所述基板在與所述長(zhǎng)邊方向相交的方向上相對(duì)移動(dòng)；以及

液體供給部，向所述狹縫噴嘴供給處理液，且

將自所述吐出口吐出的所述處理液涂布在所述基板的表面。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其特征在于，利用所述處理液在所述基板的表面形成均勻的涂布膜。