[實(shí)用新型]一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202120077275.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN213878105U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王丕龍;張永利;王新強(qiáng);秦鵬海;劉文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳佳恩功率半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/78 | 分類號(hào): | H01L29/78;H01L23/367;H01L23/427 |
| 代理公司: | 武漢聚信匯智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42258 | 代理人: | 劉丹 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 降低 vdmos 開(kāi)關(guān)時(shí)間 器件 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,包括
本體機(jī)構(gòu)(10);
殼體機(jī)構(gòu)(20),所述殼體機(jī)構(gòu)(20)包括外殼(210)、緩沖組件(260)和散熱組件(270),所述散熱組件(270)包括散熱片(271)、熱管(272)、銅片(273)、導(dǎo)熱墊(274)和插桿(275),所述散熱片(271)連接于所述外殼(210)一側(cè),所述熱管(272)兩端與所述散熱片(271)和所述銅片(273)連接,所述導(dǎo)熱墊(274)兩側(cè)與所述銅片(273)和所述本體機(jī)構(gòu)(10)一側(cè)貼合,所述緩沖組件(260)兩端與所述銅片(273)和所述外殼(210)內(nèi)壁連接,所述插桿(275)安裝于所述銅片(273)一側(cè),所述插桿(275)插接于所述本體機(jī)構(gòu)(10),所述外殼(210)套接于所述本體機(jī)構(gòu)(10)外表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述本體機(jī)構(gòu)(10)包括N+型襯底(110)、N-型外延層(120)、P型體區(qū)(130)、N+有源區(qū)(140)、多晶硅柵極(150)、P+有源區(qū)(160)、源極金屬(170)和柵極氧化區(qū)(180),所述N-型外延層(120)設(shè)置于所述N+型襯底(110)一側(cè),所述P型體區(qū)(130)和所述柵極氧化區(qū)(180)設(shè)置于所述N-型外延層(120)一側(cè),所述N+有源區(qū)(140)設(shè)置于P型體區(qū)(130)一側(cè),所述P+有源區(qū)(160)設(shè)置于所述P型體區(qū)(130)內(nèi),所述源極金屬(170)插接于所述N+有源區(qū)(140),所述源極金屬(170)一端與所述P+有源區(qū)(160)貼合,所述多晶硅柵極(150)設(shè)置于所述柵極氧化區(qū)(180)一側(cè),所述源極金屬(170)與所述多晶硅柵極(150)和N+有源區(qū)(140)之間設(shè)置有介質(zhì)層,所述導(dǎo)熱墊(274)一側(cè)與所述源極金屬(170)一側(cè)貼合。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述源極金屬(170)一側(cè)開(kāi)設(shè)有凹槽(190),所述插桿(275)插接于所述凹槽(190)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散熱組件(270)還包括第二減震墊(276),所述第二減震墊(276)安裝于所述凹槽(190)內(nèi)壁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述插桿(275)設(shè)置為兩個(gè)對(duì)稱分布,所述導(dǎo)熱墊(274)位于兩個(gè)所述插桿(275)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述外殼(210)一側(cè)開(kāi)設(shè)有第一通孔(280),所述第一通孔(280)與所述熱管(272)間隙配合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述緩沖組件(260)包括圓桿(261)和彈簧(262),所述圓桿(261)連接于所述外殼(210)內(nèi)壁,所述彈簧(262)兩端與所述外殼(210)內(nèi)壁和所述銅片(273)連接,所述彈簧(262)套接于所述圓桿(261)外表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述銅片(273)內(nèi)表面開(kāi)設(shè)有第二通孔(277),所述圓桿(261)能夠于所述第二通孔(277)內(nèi)移動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述殼體機(jī)構(gòu)(20)還包括支撐柱(220)、支板(230)和第一減震墊(240),所述支撐柱(220)兩端與所述外殼(210)內(nèi)壁和所述支板(230)連接,所述第一減震墊(240)兩側(cè)與所述支板(230)和所述N+型襯底(110)相貼合。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種降低VDMOS開(kāi)關(guān)時(shí)間的器件結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一減震墊(240)一側(cè)開(kāi)設(shè)有凹痕(250),所述凹痕(250)與所述支板(230)一側(cè)相貼合。
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
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